衬底温度对NiFe2O4薄膜生长和磁学性能的影响

作     者：孙德烨 庄澔淼 姬雪蕾 王晶 刘伟达 王丽丽 

作者机构：长春大学理学院 核工业工程研究设计有限公司 

基　　金：国家自然科学基金(编号:51302019) 吉林省科技厅科学技术研究项目(编号:20180520222JH) 吉林省产业技术研究与开发项目(编号:2018C043-3) 吉林省教育厅“十三五”科技项目(编号:JJKH20191195KJ)研究成果 

出 版 物：《产业与科技论坛》 (Industrial & Science Tribune)

年 卷 期：2020年第19卷第14期

页      码：63-64页

摘      要：采用直流磁控溅射方法,保持Ar气流量不变,控制O2气在Ar气与O2气混合气体在Ar/O2=30sccm/90sccm的情况下,采用STO(100)单晶基片制备了FNO薄膜。利用XRD和VSM等测试手段,对STO(100)单晶基片生长的不同基片温度FNO薄膜的结构及磁学性能进行表征。测试结果表明,在STO(100)单晶基片上不同基片温度得到了NiFe2O4薄膜,随着基片的温度增大,样品的矫顽力Hc先增大后减小,基片温度为650摄氏度时,矫顽力最大,Hc=1244.7 Oe。

主 题 词：NiFe2O4薄膜 基片温度 氧气分压 微观结构 磁学性能 

学科分类：07[理学] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

馆 藏 号：203964107...