射流抛光中的流场特性研究

作     者：罗银川 李秀龙 张杨 张蓉竹 杨李茗 LUO Yinchuan;LI Xiulong;ZHANG Yang;ZHANG Rongzhu;YANG Liming

作者机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 四川大学电子信息学院四川成都610064 

基　　金：四川省教育厅创新团队资助项目(13TD0048) 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2014年第40卷第4期

页      码：376-380页

摘      要：为了给出射流抛光系统的优化设计参数,从理论上分析了冲击射流流场的结构特点,建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算,结果表明,工件壁面上的压强和速度与出口压强和速度成线性正比关系。当冲击距离大于9.6d(d为射流喷口的直径)时,工件壁面压强和速度随冲击距离的增大而减小,冲击距离增加到15d时,壁面压强最大值减小到0.54p0(p0为射流出口处的压强)。工件壁面压强和速度随冲击角度的减小而减小,当入射角为90°、60°和45°时,分别得到壁面压强最大值ps=0.95 p0,0.74p0,0.475p0,上游速度最大值um02=0.96u0,0.8u0,0.67u0(u0为射流出口处的速度)。

主 题 词：冲击射流 流场特性 壁面压强 

学科分类：08[工学] 081101[081101] 0811[工学-水利类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.020

馆 藏 号：203966099...