光纤耦合声光调制器键合膜系设计与制备

作     者：刘保见 陈华志 曹家强 刘玲 LIU Baojian;CHEN Huazhi;CAO Jiaqiang;LIU Ling

作者机构：中国电子科技集团公司第二十六研究所重庆400060 

出 版 物：《压电与声光》 (Piezoelectrics & Acoustooptics)

年 卷 期：2020年第42卷第4期

页      码：484-487页

摘      要：为了实现超高速的声光调制,该文提出了一种光纤耦合声光调制器键合膜系的设计与仿真方法。利用该方法设计并制作了一款工作频率为200 MHz、10 ns光脉冲上升时间的光纤耦合声光调制器。器件采用TeO2作为声光介质,36°Y-切LiNbO3作为压电换能器晶片,衬底层采用高纯度Cr,键合层为高纯度Au,结果表明器件性能测试良好。

主 题 词：光纤耦合声光调制器 键合膜系 仿真 衬底层 键合层 

学科分类：080903[080903] 080801[080801] 1002[医学-临床医学类] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.11977/j.issn.1004-2474.2020.04.012

馆 藏 号：203968653...