暗场显微成像系统的光源研究

作     者：韦瑶 高爱华 秦文罡 WEI Yao;GAO Ai-hua;QIN Wen-gang

作者机构：西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室陕西西安710021 

基　　金：国防科工局(JCKY201608A001) 陕西省重点研发(2019GY-063)资助项目 

出 版 物：《光学与光电技术》 (Optics & Optoelectronic Technology)

年 卷 期：2020年第18卷第5期

页      码：75-79页

摘      要：以正方形激光陀螺所用高反射镜疵病检测为例,分析了使用激光光源照明时,微米量级划痕形疵病存在检测盲区的现象。实际使用中激光以45°角入射到高反射镜上,疵病检测与陀螺使用时光源入射角相同,疵病形成的散射光通过显微成像光路成像在CCD上,结合实验数据探讨了宽度为微米量级划痕形疵病的成像情况。提出了一种新颖的激光照明方式,通过将光源设计成180°范围内无死角的全光幕照明方式克服了单一激光光源照明的检测盲区,无需旋转样品多次采集图像,避免了运动控制产生的测量误差,从而也简化了图像处理步骤,提高了检测效率和精度。

主 题 词：激光光源 高反射镜 划痕形疵病 检测盲区 显微成像 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.19519/j.cnki.1672-3392.2020.05.014

馆 藏 号：203985723...