微透镜阵列的制作及其在光场成像中应用的研究进展

作     者：乌李瑛 瞿敏妮 付学成 田苗 刘民 李进喜 程秀兰 WU Liying;QU Minni;FU Xuecheng;TIAN Miao;LIU Min;LI Jinxi;CHENG Xiulan

作者机构：上海交通大学电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台上海200240 

基　　金：国家科技部“十三五”高性能计算重点研发计划项目子课题(2016YFB0200205) 上海研发公共服务平台建设项目(18DZ2295400) 上海交通大学决策咨询课题(JCZXSJB2019-005,JCZXSJB2018-022) 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2020年第41卷第5期

页      码：611-617,631页

摘      要：文章综述了微透镜阵列制备技术的最新研究进展,并将这些制备方法分为直接法和间接法进行了对比分析。回顾了微透镜在光场成像应用中的研究进展,指出目前该领域的研究重点是光场相机设计的新思路及提高分辨率的相应模型算法。

主 题 词：微透镜阵列 光场 光场成像 超精密机械加工 MEMS 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.16818/j.issn1001-5868.2020.05.002

馆 藏 号：203986391...