浸没式光刻机浸没流场的仿真与试验

作     者：傅新 赵金余 陈晖 陈文昱 FU Xin;ZHAO Jinyu;CHEN Hui;CHEN Wenyu

作者机构：浙江大学流体传动及控制国家重点实验室杭州310027 

基　　金：国际科技合作计划(2008DFR70410) 浙江省自然科学基金(R105008 D1080038)资助项目 

出 版 物：《机械工程学报》 (Journal of Mechanical Engineering)

年 卷 期：2011年第47卷第2期

页      码：189-194页

摘      要：浸没式光刻是当前45 nm以下集成电路(Integrated circuit,IC)生产线上唯一实际应用的技术。它通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的浸没液体来提高光刻的分辨率。作为光刻系统中光路的一部分,浸没液体需要保持良好的均一性。然而,曝光过程中光刻胶泄漏污染和曝光温升的问题,会破坏流场的均一性,并最终影响到成像质量。目前主要采用浸没液体的更新带走光刻中产生的污染物和热量,液体的更新效率成为了浸没式光刻机设计中必须考虑的关键问题之一。建立浸没流场的数值模型,并研究结构参数对流场更新效率的影响。运用高速摄像机、数据采集仪等组成的可视化流场检测试验系统开展浸没流场可视化研究,并与仿真结果进行对比,得到一组优化的注液与回收口参数。

主 题 词：浸没式光刻 浸没流场 流场可视化 更新效率 

学科分类：080704[080704] 08[工学] 080401[080401] 0807[工学-电子信息类] 0804[工学-材料学] 0802[工学-机械学] 0701[理学-数学类] 0801[工学-力学类] 0812[工学-测绘类] 

核心收录：

D　O　I：10.3901/jme.2011.02.189

馆 藏 号：203987205...