Si_3N_4陶瓷轴承内圈NCD膜制备中的热流耦合分析

作     者：杨春 卢文壮 左敦稳 徐锋 任卫涛 YANG Chun;LU Wen-zhuang;ZUO Dun-wen;XU Feng;REN Wei-tao

作者机构：南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室南京210016 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.50605032) 江苏省自然科学基金资助项目(No.BK2006189No.BK2007193) 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2009年第38卷第3期

页      码：642-647页

摘      要：本文设计了一套用于HFCVD系统中轴承内圈NCD涂层制备的电极装置,同时在热交换过程的分析基础上对该系统进行了热流耦合分析。对进气参数进行优化后,衬底温度场及气体流场分布均匀。在数值分析的基础上,在氮化硅陶瓷内圈上成功制备了NCD膜。

主 题 词：NCD 陶瓷轴承 涂层 热流耦合分析 有限元 

学科分类：0817[工学-轻工类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2009.03.042

馆 藏 号：203994607...