电磁聚焦成象系统中带不饱和磁铁聚焦磁场的约束逆设计

作     者：倪国强 周立伟 金伟其 方二伦 

作者机构：北京理工大学 西安近代化学研究所 

出 版 物：《电子学报》 (Acta Electronica Sinica)

年 卷 期：1991年第19卷第2期

页      码：50-56页

摘      要：本文对电磁聚焦成像系统中带不饱和磁铁的聚焦磁场的逆设计进行了探讨,用约束优化方法——内罚函数法来设计能实现给定磁场分布的实际磁聚焦线圈系统。

主 题 词：电磁聚焦成像 磁铁聚焦 磁场 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录：

馆 藏 号：203996508...