摘要：随着半导体产业的高速发展,集成电路制造中光刻工艺特征尺寸极限化微缩,套刻精度的要求也愈来愈极端严苛。本文基于影响套刻精度的核心技术,即对准技术,对该技术中精密测量传感系统的设计和微纳测量对象对准标记的设计两个方面进行了归纳分析,就业内国际顶尖科技公司的技术发展进行了整理,并详细介绍了他们在对准测量技术路径演化进程中所起到的推动作用。同时,还对当前国内各相关技术团队在该方向的最新研究成果进行了总结。以此为基础,进一步讨论了面向更为先进的工艺节点,光刻对准技术的改进方向和优化思路,从而为获得更高精度的套刻性能提供重要的技术参考。

摘要：为了提高相位光栅位置测量系统的测量精度,需要降低零级和偶衍射级次信号的衍射效率,同时提高高奇衍射级次信号的衍射效率。目前,已知的增强型相位光栅衍射效率模型限制了结构参数取值范围,在设计时以某一高奇衍射级次信号作为优化目标。为设计针对多个高奇衍射级次信号的衍射增强、零级和偶衍射级次缺级的相位光栅结构,对增强型相位光栅衍射效率进行了深入研究。该研究基于标量衍射理论,建立相位光栅结构与衍射效率理论模型;分析光栅结构参数如槽深、栅脊宽度、栅脊位置对衍射效率的影响;根据相位光栅位置测量系统的约束条件,获得多奇衍射级次增强型光栅结构。这种结构不仅使零级和偶衍射级次缺级,而且同时提高了第5、7、9衍射级次的衍射效率。本研究有利于深入理解增强型相位光栅衍射原理,为光栅设计提供支撑。