摘要：运用射频磁控溅射技术,改变氩氧流量比在玻璃衬底上生长ZnO∶Al(ZAO)样品,采用XRD、紫外-可见分光光度计对薄膜微结构、厚度及其光学性能表征,结果发现:维持氩流量不变(9 sccm),随着氧流量增加(1～9 sccm),样品XRD峰强减小,半高宽增大,晶粒尺寸减小,薄膜结晶性能变差;而维持氧流量不变(9 sccm),氩流量减小(9～3 sccm),样品XRD峰强增大,半高宽减小,晶粒尺寸变大,结晶性能变好。紫外可见光光谱在400～900nm波长区间平均透射率差异大(67.9%～91.1%);在420～900 nm波长区间平均透光率高且差异小(90.2%～92.4%)。

摘要：运用射频磁控溅射技术,改变氩、氮流量比(9/1～9/4)在玻璃衬底上获得ZnO∶N样品,采用XRD、紫外-可见分光光度计、傅里叶红外光谱仪及SEM对薄膜微结构和光学性能表征。结果发现∶N流量小,样品XRD峰强小,峰位不明显,紫外可见光光谱在320～780 nm波长区间透射率变化小;随着N流量的增加,样品XRD有(002)强单峰出现,在400 nm波长以下透射率急剧下降;当氩氮流量达到9/4,样品XRD出现双峰,紫外光透射率无明显变化。

摘要：运用射频磁控溅射技术,改变工作压(3～10 Pa)在玻璃衬底上生长透明导电ZnO∶Al(ZAO)样品,采用XRD、紫外-可见分光光度计、霍尔效应测量仪及SEM对薄膜微结构、厚度及其光电性能表征。结果发现:随着工作压增大,样品XRD曲线由多峰转变为(002)单峰,峰强变大半高宽减小,晶粒尺寸由10.01 nm增大到13.46 nm,薄膜结晶性能变好;紫外可见光光谱在400～760 nm波长区间平均透射率均在85%以上,且在400 nm以下均有吸收边峰出现,样品带隙宽度随工作压增加有蓝移现象,样品厚度随工作压增加从1085 nm减小到781 nm。样品电阻率随工作压从3～6 Pa增加由0.5×10-4Ω·cm增大到35×10-4Ω·cm,在6～10 Pa区间有减小趋势。

摘要：本文介绍了ZnO薄膜的几种主要的制备方法,有脉冲激光沉积法、溶胶一凝胶法和磁控溅射法,再对所制薄膜的表征方法进行介绍,有X射线衍射分析、SEM分析、薄膜光学性质分析、四探针法、原子力显微镜。

摘要：大学物理作为所有高等院校理工科非物理类专业学生的一门必修公共基础课。大多数学生在学习过程中不能很好地适应大学物理的学习。本文从几个方面进行分析，希望能帮助学生做好中学物理学习与大学物理学习的衔接。

摘要：文中针对我国高校连续扩招,尤其是独立学院生源质量普遍下降的情形下,在保障非物理专业物理类课程教学基本要求前提下,以景德镇陶瓷学院科技艺术学院工科学生为教改试点,对物理类课程教学内容、教学方法、教学手段及教学考核等方面进行了一定的研究与实践,并取好的教学效果。