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磁控溅射光学膜均匀性改进
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《真空》2017年 第2期54卷 68-70页
作者:刘思用 侯军民武汉光迅科技股份有限公司武汉430205 宝石机械成都装备制造分公司成都610052 
随着光通讯的发展,对光学薄膜的性能要求越来越高,这对镀膜机的均匀性提出更高要求。本文通过设计一种新的夹具,使镀膜机的均匀性由1%优化为0.1%。
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波长渐变膜的设计与制备
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《真空》2015年 第2期52卷 38-40页
作者:刘思用 侯军民新美亚科技(深圳)有限公司广东深圳518038 宝石机械成都装备制造分公司四川成都610052 
基于实际使用中的需求,使用磁控溅射的方法,在50 G窄带光学膜的基础上,通过使用挡板遮挡,在玻璃上镀制不同厚度的膜层,在不同物理位置实现中心波长渐变的50 G窄带光学膜。
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