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检索条件"作者=关兴国"
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半导体微结构材料的发展
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《半导体情报》1994年 第2期31卷 1-7页
作者:关兴国 
超晶格的概念与先进的材料生长技术相结合产生了半导体微结构材料。目前,材料设计、材料生长和深微米技术的一体化,推动着半导体微结构材料向着低维化方向发展。
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AlGaInP橙光、黄光高亮度LED外延片研制
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《材料导报》2001年 第2期15卷 21-21页
作者:关兴国电子部十三研究所汇能公司石家庄050051 
80年代末期以来,用MOCVD生长的异质结、量子阱和超晶格材料日益显示出它在技术上的重要性,用其制作的LED具有常规器件无法比拟的优异性能,并且以全新的概念改变了器件的设计思想,使得半导体器件设计由“掺杂工程”走向“能带工程”,高...
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AlGaInP红、橙、黄光高亮度LED外延材料
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《半导体情报》2000年 第6期37卷 50-54页
作者:关兴国 严振斌 刘惠生 路红喜 李志强 李艾功河北汇能电力电子有限公司河北石家庄050051 
采用金属有机化合物汽相淀积技术生长用于高亮度发光管 (UB-L ED)的 Al Ga In P/Ga As半导体微结构材料 ,突破了材料结构设计和材料生长工艺的关键技术 ,生长出满足于 Cd级的红、橙、黄光 L ED器件的外延材料。
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