摘要：介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计 ,该电子光学系统采用透镜内偏转设计 ,系统象差小 ,偏转灵敏度高 ,工件面上电流密度大。通过调试和使用 ,电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。

摘要：垂直扫描机构是单晶片离子注入机靶盘的支撑部件,起着将高速直线运动从靶室外传递到靶盘的作用。文中针对垂直扫描机构进行了差分密封的设计和计算,结果显示,此垂直扫描机构具有无摩擦、漏气率小的特点,因此它能满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求。

摘要：对垂直扫描机构差分式密封进行了设计和计算。差分式密封是非接触动密封,垂直扫描机构中,轴和轴套之间有微小的间隙,轴套上有两级差分抽气室,通过微小的间隙和两级差分抽气室,密封气体被两级真空泵抽出。这种密封能实现无摩擦、性能好的密封,能最大程度满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求。