摘要：目的为提高原子层沉积镀膜腔温度控制的快速性和稳定性,提高镀膜质量。方法利用自抗扰控制(ADRC)算法,对各部分参数进行整定,结合组态软件和西门子S7-200SmartPLC设计一种基于自抗扰的温度控制器。结果利用自抗扰温度控制器达到了原子沉积镀膜温度控制在具有较小超调的前提下快速、稳定控制的要求,实现了原子层沉积镀膜腔温度的高精度控制,提高了镀膜的质量。结论经仿真和实际应用证明,对温度控制这种具有较大惯性的控制系统,本文所设计的ADRC温度控制器的快速性和准确性均优于传统的PID控制器,且具有明显的抗干扰能力。

摘要：目的 为提高原子沉积镀膜工艺的可靠性,稳定薄膜质量,设计基于可编程逻辑控制器(PLC)的一种原子层沉积设备控制系统。方法 针对工作原理和工艺需求,根据传感器和执行器的特点,确定了以西门子S7–200 Smart PLC为控制器,以昆仑通态1070Gi触摸屏作为人机界面的硬件系统方案,实现所有逻辑控制;并利用PLC的晶体管输出端子,采用“PID+PWM”技术进行加热区域温度控制。结果 该控制系统实现了原子沉积镀膜一键操作,保证了镀膜过程中高精度温度均匀性要求(±1℃),确保了设备的可靠性和沉积薄膜的可重复性。结论 经实际应用,证明该控制系统具有稳定性好、误差小、自动化程度高等优点,达到了工艺要求。