摘要：讨论样品尺寸,以及Si作为合金和杂质元素时对Al-Fe-Mg-Cu系铝合金带的抗拉强度、伸长率及导电率的影响。结果表明:Si作为合金元素后(0.35%~0.45%,质量分数),Al-Fe-Mg-Cu系铝合金带的抗拉强度升高,导电性下降。但无论Si是杂质还是合金元素存在,铝合金带的伸长率均高于12%,导电率均高于50%IACS。另外,样品尺寸对铝合金带拉伸性能和导电率无明显影响。

摘要：利用射频磁控溅射法制备了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,在传统的磁控溅射系统中引入外加磁场,研究了外加磁场对AZO薄膜沉积速率、形貌结构及光电特性的影响.研究结果表明,外加磁场后薄膜的沉积速率从不加磁场的13.04 nm/min提高到了19.93 nm/min;外加磁场后薄膜表面平整致密、颗粒大小均匀,结晶质量较高,而不加磁场薄膜表面形貌呈蠕虫状,薄膜质量较差.溅射时间为90 min时,外加磁场前后AZO薄膜方阻分别为30.74?/和12.88?/.外加磁场对薄膜可见光透过率影响不大,但使薄膜的吸收边蓝移现象更明显.运用ansys软件对磁控溅射二维磁场分布模拟后发现,外加磁场提高了靶上方横向磁场强度,改善了磁场分布的均匀性,加强了磁场对电子的磁控作用,提高了靶电流,是AZO薄膜的溅射速率、光电性能和形貌结构得到提高和优化的原因.

摘要：在基底与靶材之间放置磁性强弱不同的永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射制备氮化硅陷光薄膜的影响.通过X射线衍射、原子力显微镜(AFM)以及紫外分光光度计分别测试了外加磁场前后所制备薄膜的组织结构、表面形貌和光学性能.结果表明,外加磁场后,氮化硅薄膜依然呈现非晶结构;但是表面形貌发生明显改变,中心磁场1.50T下,薄膜表面为特殊锥状尖峰结构"类金字塔"的突起,而且这些突起颗粒垂直于基底表面;在可见光及近红外范围内,中心磁场1.50T下的薄膜样品平均透射率最大,平均透射率达到90%以上,比未加磁场的样品提高了近1倍,具有很好的陷光特性.

摘要：对多弧离子镀ＴｉＮ涂层的工艺（包括氮分区、弧靶啼场、弧源电流）进行了正交设计分析．表明，影响ＴｉＮ涂层表面硬度的主要因素为氮分压和弧靶磁场大小，弧流大小为次要因素．氮分压对ＴｉＮ涂层的相结构影响较大，而弧靶磁场影响电弧运动的稳定性以及涂展表面粗大颗粒的大小．另外，在其它工艺条件相同的情况下，随着氮分区、弧靶磁场的增大，ＴｉＮ涂层的耐磨性均有提高．

摘要：利用ＦＯＸＢＡＳＥ＋关系数据库建立了零件热处理工艺数据库，并介绍了该系统的功能、设计思想和实现技术。

摘要：概括了模具CAD/CAE/CAM技术的内容及其特点,概述了国内外模具CAD/CAE/CAM技术的应用,随着模具CAD/CAE/CAM技术朝着集成化、网络化、标准化、专业化、开放性、虚拟化、专业化和智能化方向发展,其必将在产品设计与制造中发挥越来越重要的作用。

摘要：对55Si Cr弹簧钢表面进行不同强度的喷丸处理,并在390℃进行低温气体渗氮12 h。利用超景深显微镜、显微硬度计、直读光谱仪以及X射线衍射仪(XRD)分析了渗氮层的显微组织、厚度、氮含量和相组成。结果表明,渗氮层主要由γ'-Fe4N和αN相组成,并有少量的Cr N和Fe3O4。随喷丸强度增加,渗氮层组织更加均匀致密,渗氮层厚度、表面硬度和渗层氮含量均增加。

摘要：重点综述了碳纤维复合材料螺旋弹簧制备过程、主要特点、应用以及国内外研究现状。在此基础上,总结了碳纤维复合材料螺旋弹簧的制备工艺、设计、理论分析及表征性能的研究前景。

摘要：简述了低温渗氮的理论依据,总结了低温渗氮技术的研究近况,重点介绍了几种低温渗氮方法的原理和特点。最后指出了低温渗氮技术存在的问题和今后的研究方向。

摘要：为满足DT4钢在汽车限力轴上的应用要求,对其进行循环热处理,研究热处理后材料的组织与扭转性能。结果表明,经2次循环退火处理后,DT4钢平均晶粒尺寸为12.50μm,约有65.0%的晶粒尺寸在12.93μm左右,10μm以下的晶粒增多,晶粒细化明显且均匀性提高,扭转强度增加10.31%,剪切屈服强度增加7.53%。