摘要：由于传统的离子抛光工艺采用的确定去除函数的方法操作复杂且成本很高,本文提出了利用法拉第杯对离子束流空间分布进行测量、标定的方法,并计算得到不同离子源工作参数对应的去除函数。首先,基于离子束抛光材料去除原理,研究了离子束抛光过程中束流分布与能量对去除函数的影响,并提出简化的离子束抛光去除函数模型。然后,设计实验并得出离子束流空间分布与去除函数相关参数间的关系,计算得到了不同离子源工作参数产生的离子束流对应的去除函数。对硅和融石英玻璃的相关实验表明:利用法拉第杯扫描结果计算相同材料的去除函数的单位时间体积去除率与实际测量值误差小于2%。结合抛光实验,对Φ800mm碳化硅表面硅改性层平面镜进行抛光,得到的初始面形误差均方根(RMS)值为57.886nm,两次抛光后RMS值为11.837nm,收敛率达到4.89,满足精密光学加工对去除函数的确定性及精度的要求,并大大提升了确定去除函数的效率。

摘要：为了实现对大口径碳化硅非球面反射镜的表面改性层硅的高精度快速抛光,设计制作了高能量大束流氩离子枪。通过热灯丝和阳极栅网的组合实现氩原子的离子化,通过调节氩离子所处区域的电位来确定离子的能量,通过静电聚焦透镜来实现氩离子的聚焦。调节灯丝和阳极栅网之间的电压达到离子化率的最大化,调节静电聚焦透镜的尺寸和相对位置实现氩离子的高透过率。氩离子枪的材料选择既需满足超高真空使用又要避免产生真空放电。通过理论计算和模拟氩离子束流的轨迹,确定了氩离子枪各主要组件的参数。测试结果表明:氩离子的加速电压可达20 kV,在工作距离为30 mm和氩气分压为1.2×10^(−2) Pa的情况下,可产生50μA的氩离子束流,束斑的直径在19~24 mm之间连续可调。该氩离子枪体积小,可以安装在真空多维位移台上进行大范围的运动,实现对大口径光学元件的高真空表面抛光。

摘要：本文对《英国教育技术期刊》1970年至2018年第3期刊发的1,777篇研究论文的标题和摘要进行内容分析,反思过去50年教育技术研究。本研究采用Leximancer这种文本挖掘工具分析每一个10年所出现的主要概念和主题,并把它们与《计算机与教育》和《英国教育技术期刊》同期被引率最高的文章的主要概念和主题进行比较。过去50年《英国教育技术期刊》常见主题包括远程教育教与学的发展、教学设计的出现、实践者与学习设计者之间的误解、职前和在职教师教育以及教育工作者和学生接受技术的问题(使用技术的信心、教育工作者和学生的技术技能和机构没有提供培训和融合所需的空间和时间等方面的支持)。本文还针对今后的研究提出建议,包括研究教育工作者专业发展的其他模式和进一步探索理论与政策的作用。