摘要：针对深空探测超宽光谱定标黑体源的关键技术问题,构建了一种基于优化微结构和纳米超黑涂层的深空探测星上黑体定标源。基于有限元方法仿真,验证了微锥结构不同宽高比与黑体发射率间的对应关系,确定了周期性线阵V槽结构相对于平面结构在黑体发射率方面的提升作用。优化星上黑体源高发射率微结构,优选空间超黑高发射涂层,设计星上黑体源高精度测温系统,进而完成黑体源工程设计。最后,通过星上黑体源发射率计量及实验室辐射定标稳定性测试进行验证。检测结果表明,深空探测超宽光谱定标黑体源具有超宽光谱范围、高发射率、高温度稳定性等特点,其光谱范围为5~50μm,法向平均发射率为0.986,温度稳定性达到0.16 K。该定标黑体源可大幅提升高发射率辐射定标源的光谱范围,为深空探测载荷的在轨高精度星上辐射定标提供支撑。

摘要：无论是一个微系统的功能和使用寿命,还是各种性能,如精度、极限频率、干扰量的不灵敏度以及成本,都与该系统机械元件的结构有关.今后,将通过在不同平面的模拟方法,作为重复过程来寻求最佳的系统.本文介绍,如何在实践中施行.图1用方框图示意说明微机械模拟的过程.从已有的规格出发,在设计人员知识、经验和想法的基础之上,首先完成一个初形设计.为了使这一初形设计阶段简化,可以利用知识基础(第一步),它包括微机械基础元件及其特性参数,作为分析说明加上简单假设的结果.如果微机械元件要用硅蚀刻来制作,那么下一步就需要制作掩模(第二步).应当根据蚀刻过程的要求,修改原始的几何数据.利用修正的几何数据。

摘要：在微系统的设计中,不同场的相互作用有着特殊的意义.特别明显的是高的集成密度,它对机械元件的性能有着重要的影响,所以,对于微系统的设计人员来说,绝对有必要弄清楚各种不同的场及其作用,以便采取正确的措施.温度—机械相互作用温度场与结构场之间的相互作用,是由弹性元件变为拱形和扭曲而表现出来的.其原因在于由不同热膨胀系数引起的热应力和由表层切割过程所引起的内应力(本征应力).结构场对于温度场的反作用。

摘要：微型技术及其相邻的工艺,为以发电和电场评价为基础的元件,开辟了许多新应用的可能性.本文介绍一种设计完备的微型技术构造的静电驱动装置.从有限元件计算出发,根据工艺上生产可能性设计了这些元件,并对结构与作用方式作了详细的说明.

摘要：轻型结构光学系统要求认真而严格的设计，人们正在开发许多这类光学系统。基本先决条件是在理论计算、结构设计、以及相应加工与装配工艺的掌握中的技术诀窍。除了传统的非球面最佳化和应用外，衍射光学元件目前为光学系统开发的这一特殊范围有新的促进。

摘要：本文介绍了两种基本的模拟湿化学各向异性蚀刻过程模型。从这两个模型的特性和蚀刻过程的边界条件出发,对其作为系统设计辅助手段的可行性做了评价。文章既指出了利用模拟的办法对设计过程的作用,又说明了使这种模拟的应用受到局限的因素。最后还讨论了在模拟时所遇到的问题以及必要的最佳化的标准。

摘要：在米范围移动距离中,纳米级的高分辨测量系统,获得越来越重要的意义.然而,至今这类测量系统大多数不轻便且价格昂贵.本文介绍的是一种半导体激光干涉仪全新的设计方案,其结构简单,传感器十分轻便(直径17mm),具有至今未达到的效率,是距离、力、硬度或折射率理想的测量工具.

摘要：斯图加特大学设计与加工技术系、光学与精密工具技术研究所举办的传统的光学研讨会于1996年2月21日召开。重点课题是:微型结构、近场显微术、干涉测量术和加工测量技术。主办人为工程光学研究所的Tiziani教授。与会人员约300人。Tiziani教授首先做“三维测量技术的概括”报告,特别介绍了干涉测量的技术水平和发展趋向。相位测量与三角测量方法越来越变得实用,此外,还介绍了许多革新技术,如三波长干涉测量与斜光干涉测量的结合,用于粗糙表面的单位测量。还有双波长本振干涉测量、双本振干涉测量和白光干涉测量。在这方面新的内容是在保持干涉测量分辨率的情况下,增大了单值性的范围。图1介绍了一台扫描短相干干涉仪的结构示意图。由于单值性范围的增大,这种方法还可用来测量分离的表面(如测量继电器衔铁)。

摘要：精密工具技术中不断提高的自动化程度、最高的质量要求,引起了在精密控制与定位装置中大量使用电机驱动机构。根据降低开发费用、缩短开发时间的要求。在设计新一代的机器中,决定了目前设计人员大多采用的方式。 特别是在新的结构设计时。

摘要：陶瓷压铸法(CIM)目前为小工件设计者提供了低阶批量生产用于复杂工件的高硬度、耐高温、耐磨损模具的可能性。这种方法不需要费时间的辅助性的生产工序,比用其他的加工方法,有更好的重复尺寸精度。