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电子束偏放电路的计算机辅助设计
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《微细加工技术》1996年 第1期 17-22页
作者:姚作宾 高文洪 王绍钧山东工业大学自动化工程系 
本文介绍了应用现行的PSPICEV5.0软件和CAD优化技术,对亚微米电子束曝光机高速偏放电路的VMOSFET参数进行处理。针对电路中的关键参数:导通电阻、开关速度、温度影响、灵敏度及噪声干扰进行分析、设计。
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高速偏放系统噪声抑制技术的研究
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《微细加工技术》2008年 第2期 5-7页
作者:姚作宾 张玉林 魏守水山东大学控制科学与工程学院电子束研究所济南250061 
为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了...
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