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双重注意力引导的弱监督雨滴图像增强
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《电子测量技术》2022年 第4期45卷 79-84页
作者:蒲燕虹 张金艺 姜玉稀上海大学特种光纤与光接入网重点实验室上海200444 上海大学特种光纤与先进通信国际合作联合实验室上海200444 上海三思系统集成研究所上海201100 
基于深度学习的雨滴图像增强方法普遍存在高度依赖配对样本数据集,雨滴去除后图像背景细节模糊等问题。对此,提出一种双重注意力引导的弱监督雨滴图像增强方法。该方法设计构建弱监督雨滴图像增强网络,仅需来自雨滴图像域与干净图像域...
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手机背光驱动电荷泵电路的设计
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《微计算机信息》2005年 第3期21卷 125-126,69页
作者:方蓉 程东方 冯旭 姜玉稀上海大学 
介绍了为手机背光驱动而设计的电荷泵电路,详细讨论了其中的四大模块电路:带隙基准、温度保护、振荡器、控制电路的电路结构、工作原理、性能特点。
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NMOS ESD保护器件直流仿真模型设计
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《微计算机信息》2008年 第28期24卷 296-298页
作者:姜玉稀 陆嘉 冉峰 杨殿雄上海大学微电子研究与开发中心上海200072 上海大学 
本文对NMOS ESD保护器件建模中的骤回现象和寄生效应进行了研究,并据此提出了一个NMOS ESD保护器件的DC模型。该模型包括基于BSIM3模型的MOS管、反映寄生效应的寄生NPN晶体管、衬底电阻和串联电阻。提出了用于描述模型工作在大电流区域...
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0.6um工艺NMOS ESD保护电路版图优化
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《微计算机信息》2008年 第32期24卷 289-291页
作者:姜玉稀 陆嘉 冉峰 杨殿雄上海大学微电子研究与开发中心200072 
本文研究了在0.6um工艺下,数个版图参数对NMOS ESD保护器件性能的影响,并给出了这些版图参数适宜值的范围;提出了用于I/OPAD的ESD保护电路的版图优化方法,并证明了版图优化在提高ESD保护电路性能上的作用。
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0.13μm GGNMOS管的ESD特性研究
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《电子与封装》2009年 第12期9卷 11-16页
作者:郭斌 王东 姜玉稀山西稷山广播电视发展中心山西稷山043200 巴州电力公司塔什店火电厂四川巴中636600 上海大学上海200000 
当ESD事件发生时,栅极接地NMOS晶体管是很容易被静电所击穿的。NMOS器件的ESD保护机理主要是利用该晶体管的骤回特性。文章对NMOS管的骤回特性进行了详细研究,利用特殊设计的GGNMOS管实现ESD保护器件。文章基于0.13μm硅化物CMOS工艺,...
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电压型CRM Boost PFC小信号建模分析与补偿设计
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《电子技术应用》2015年 第1期41卷 145-148页
作者:严利民 李茂泽 姜玉稀 王成 关彦青上海大学微电子中心上海200444 上海交通大学上海200240 上海三思电子工程有限公司上海201100 
介绍了一种工作电压控制模式下的CRM-Boost功率因数校正(PFC)电路的小信号模型推导过程,该方法是在传统的态空间平均法已不再适用的情况下,采用电流注入等效电路的方法来推导其数学模型,并在小信号数学模型的基础上设计了控制环路的补...
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一种用于白光LED驱动的电荷泵电路设计
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《电子测量技术》2007年 第7期30卷 150-154页
作者:徐健 姜玉稀 陈国呈上海大学机电工程与自动化学院上海200072 
本文设计了一种用于白光LED驱动的电荷泵电路,可驱动4个白光LED,为彩屏LCD提供背景光源,单路最大输出电流20mA,采用数字调光方式,提供32级亮度输出。电路主要由数字调光、开关管、振荡器、带隙基准、温度保护、软启动电路等组成。本文...
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0.13um工艺中钴硅化物的缺陷分析与改善
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《微计算机信息》2010年 第23期26卷 151-152,208页
作者:姜宁 程秀兰 姜玉稀上海交通大学微电子学院上海200030 上海宏力半导体制造有限公司技术研发单位上海201203 上海大学微电子中心上海200072 
在半导体器件的制造过程中,尤其是在0.18um及其以下的制造工艺中,自对准金属硅化物(Salicide,Self-Aligned Sili-cide)工艺是一项极其关键,同时也涉及到复杂工艺整合的工艺技术。它直接决定了所制造的半导体器件能否达到EDR(Electrical ...
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