摘要：硅在常温下性质稳定、红外透明区宽,所形成的硅薄膜质硬、红外区折射率高是一种较理想的红外光学薄膜材料。在红外相机、热成像仪、红外光谱仪、红外波片等方面得到广泛应用。本文分析了光学薄膜设计理论,研究了衬底材料和镀膜材料特性,通过TFCalc薄膜设计软件设计和优化石英玻璃和蓝宝石不同的衬底材料下薄膜厚度为900 nm的硅薄膜特性,设计结果表明在近红外波段薄膜消光系数1 × 10−3在700~1000 nm的厚度下模拟硅薄膜的光学性能不同。

摘要：CdSe薄膜在许多应用领域都有广泛应用。在光催化领域,CdSe薄膜可以吸收光能并产生电子空穴对,从而促进光催化反应的进行。在生物医学领域,CdSe薄膜可以用于制备生物标记物和荧光探针,用于细胞成像、分子探测和生物传感等的应用中。在光电子学领域,CdSe薄膜因其优异的光电特性应用于太阳能电池的光吸收层,光传感器、光检测器和光放大器等光电子学器件中。本文通过CdSe薄膜制备理论分析其光学特性,制备CdSe太阳能吸收薄膜。针对其作为太阳能电池吸收薄膜的性能要求,采用G|2HL|A双层减反射膜系作为母膜系,以CdSe作为高折射率材料,SiO2、MgF2、HfO2分别作为低折射率材料进行膜系设计,并通过数据对比发现HfO2效果最好,通过设计降低反射率提高透射率和吸收率指标,选择可变度量法进行优化后,使其透过率和吸收率获得明显提升。设计结果表明:在380~780 nm波段,透过率高于30%,吸收率高于60%;在780~1000 nm波段,透过率高于65%,吸收率高于25%。设计要求值为保证镀制容差进行了透过指标溢出设计,数据表明设计的膜系能很好地满足薄膜性能需求,促进CdSe薄膜在光电子学领域更广泛的应用。

摘要：增透膜技术在各个领域的广泛应用无可否认,从日常生活中的眼镜镀膜到国家安全领域的武器系统,增透膜的重要性不断凸显。随着科技的进步和应用需求的不断提高,人们对增透膜性能的要求也越来越高。本研究通过分析增透膜理论,采用光学设计工具TFCalc软件,运用高低折射率材料的交替堆叠的膜系设计方法,利用单纯形法和针插法优化膜系结构,通过材料对比选择钠钙玻璃作为基底材料,选择TiO2、SiO2、Al2O3以及MgF2作为薄膜材料,设计了一种在400~1100 nm波段平均透过率99.0%以上的宽带增透膜,其中在400 nm处最大透过率为99.92%,1100 nm处最小透过率为99.11%。最后从膜层厚度变化和入射角度方面进行了膜层透过率的误差分析,并提出了可接受范围的误差值。