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分辨力增强技术的频谱分析
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《光学学报》2007年 第10期27卷 1758-1764页
作者：孙知渊 李艳秋中国科学院电工研究所 
离轴照明和衰减型相移掩模作为重要的分辨力增强技术,不仅可以提高光刻的分辨力,同时还可以改善成像焦深,扩大光刻工艺窗口,实现65-32 nm分辨成像。从频谱的角度分析了离轴照明和衰减型相移掩模对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分...
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