摘要：通过试验研究了工作气体的压力和种类对涂硼电离室坪特性、中子灵敏度和γ感应度等性能的影响。试验结果表明,随着工作气体压力的增大,电离室坪区会向高电压方向移动,即电离室的工作电压会增大;工作气体为10%CH4+90%Ar(P10)时,当工作气体压力(从0.025 MPa增加到0.15 MPa)增大,电离室中子灵敏度会迅速增大,继续增大工作气体压力,电离室中子灵敏度保持不变;电离室中子灵敏度会随着工作气体中高电离能气体成分增加而减小;P10气体压力在0.1~0.4 MPa范围内,电离室γ感应度与工作气体压力成正比。

摘要：HFETR 的控制保护系统,经运行、设计和检修人员的共同努力,经受了十年运行的考验。本文介绍了控制保护系统十年运行状况以及针对实际运行中出现的问题所做的必要改进。这些改进使控制保护系统各设备更完善,操作更简便,可为该系统的今后设计提供点滴借鉴。

摘要：从"乌海论坛""绍兴论坛"到十二届国展:书法回归文化本位的三部曲二〇一八年九月至二〇一九年九月,一年的时间,"现状与理想"——乌海论坛、"源流·时代"——绍兴论坛、全国第十二届书法篆刻作品展览,当代书坛三件现象级事件,成为中国书协成立以来浓墨重彩的华章,也必将被载入新时期文化发展的史册。