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基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备: 收藏
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引用; 《强激光与粒子束》2011年第2期23卷 407-411页; 作者：刘华松王占山季一勤沈正祥马彬程鑫彬焦宏飞陈德应刘丹丹宋洪君同济大学精密光学工程技术研究所上海200092 天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室天津300192 哈尔滨工业大学光电子技术研究所哈尔滨150001; 为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中,利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基...; 为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中,利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜,通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算,获得膜层厚度修正系数,初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系,在0°-30°入射角度下,600-1 200 nm波段的平均透过率达到99%以上。; 来源：详细信息评论

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