摘要：为研究磁控溅射法中溅射功率、氧氩比、基底温度、工作气压、溅射时间等对VO_2薄膜制备的影响,寻找VO_2薄膜的最佳制备参数,本文采用正交实验法,设计了5因素4水平的16组实验,然后按照设计的正交实验方案实施了实验,在实验中严格控制实验条件并记录;实验完成后采用X射线衍射方法对实验结果进行测试并分析了氧化钒薄膜的物相组分,探究了制备条件因素与水平对薄膜组分的影响;然后采用直观比较的方法,从16组实验中选取符合结果或接近期望的实验组。最后得出制备VO_2薄膜的优选参数为:溅射功率220 W,压强0.8 Pa,基底温度300℃,氧氩比为0.5∶25。

摘要：为实现对VO_2薄膜光学常数的测量,本文在全光谱拟合法的基础上,首先利用导纳矩阵法推导出透射率T与薄膜厚度d、折射率n以及消光系数k的函数关系,然后利用单纯形法得到其优化函数。最后采用Matlab编程方法对低温态、高温态VO_2薄膜的红外透射率进行了全光谱拟合,得到折射率和消光系数等VO_2薄膜光学常数的拟合曲线。结果表明:拟合曲线与已有研究结果及实测曲线基本吻合。采用全光谱拟合方法得到的光学常数能较准确的对VO_2薄膜进行描述,为最佳膜厚设计提供了依据。此外,为更简便地描述VO_2薄膜的光学常数,本文还引入了Cauchy色散模型方程,对全光谱拟合方法得到的中远红外波段(2.5~15mm)的光学常数结果进行了拟合。