摘要：随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术。本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀膜离子源,其中包括考夫曼离子源、霍耳离子源、射频离子源、无栅离子源、阳极层离子源(均由我们实验室制造)的工作原理,设计要点,分析了使用时可能出现的问题及解决办法,最后从各种离子源的工作机制、工作特点、性价比、优缺点上予以比较。相信会有益于从事薄膜的工作者。

摘要：采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜 ,已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑 ,并获得了稳定运行的高性能离子源。

摘要：本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。

摘要：论述了霍尔等离子体源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场 ,及沿轴向有较大梯度的磁场 。

摘要：论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。