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基于响应面法的CMP后清洗工艺优化实验
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《微纳电子技术》2022年 第7期59卷 718-724页
作者:张康 张菊 岳爽 高跃昕 李婷北京烁科精微电子装备有限公司北京100176 中国核电工程有限公司北京100840 
在集成电路制造化学机械平坦化(CMP)制程中,后清洗工艺直接关系到晶圆表面缺陷、洁净度和表面粗糙度等关键工艺指标。而主流CMP后清洗过程中超洁净刷洗工艺至关重要,以新型国产CMP机台为基础,以半导体制造前道制程标准化二氧化硅衬底直...
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轮胎胎面胶料挤出口型逆向数值设计
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《高分子材料科学与工程》2014年 第10期30卷 108-112页
作者:王国林 姜波 李国瑞 岳爽江苏大学汽车与交通工程学院江苏镇江212013 风神轮胎股份有限公司河南焦作454000 
针对某胎面胶(TMG)挤出断面与施工设计断面局部误差较大问题,利用Polyflow软件,选取Phan-Thien and Tanner(PTT)本构模型和Navier滑移模型,逆向数值设计了该胶料的挤出口型。分析口型出口形状的成因,针对口型出口处速度场分布不均这一结...
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基于视觉注意的遥感图像森林植被纹理分割
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《计算机工程》2018年 第4期44卷 274-280页
作者:刘小丹 岳爽辽宁师范大学计算机与信息技术学院辽宁大连116029 
树冠作为遥感图像森林植被的典型纹理单元,具有突出的结构纹理特征,但现有分割方法较少利用此类结构纹理进行分割。为此,提出一种基于视觉注意机制的遥感图像森林植被纹理分割方法。将遥感图像中树冠的形状和结构作为视觉注意目标,通过...
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论感性诉求广告的创作
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《新闻爱好者》2007年 第7期 36-36页
作者:岳爽南阳电视台 
“现代乃至将来都是一个过剩的消费时代,在一个相对富裕的社会里,消费者的目的,不再是只为需要而消费,而更多的是为消费而消费,为感觉而消费。”这是在一次国际广告研讨会上某位专家提出来的一个观点。在生活节奏日益加快的现代社...
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600/50R22.5农田/公路两用型全钢农业子午线轮胎的设计
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《橡胶科技》2023年 第6期21卷 301-304页
作者:梁孟珠 陈志高 贺李萍 赵秀巧 张敬 王彩红 李静 岳爽风神轮胎股份有限公司河南焦作454003 上海米其林轮胎有限公司上海201111 倍耐力轮胎(焦作)有限公司河南焦作454003 
介绍600/50R22.5农田/公路两用型全钢农业子午线轮胎的设计。结构设计:外直径1172 mm,断面宽620 mm,行驶面宽度575 mm,行驶面弧度高18 mm,胎圈着合直径572 mm,胎圈着合宽度515 mm,断面水平轴位置(H_(1)/H_(2))0.94,胎面采用以横沟为主...
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HIPPS在天然气输送管线中的设计和应用
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《油气田地面工程》2020年 第8期39卷 80-86页
作者:刘洋 王玺 陈宏升 岳爽中国石油管道局工程有限公司065000 
针对可燃、易燃介质的工艺系统中超压安全保护设施安全阀在工程项目的经济性、安全性和可操作性上的缺陷,从安全性和可靠性上选择高完整性压力保护系统(HIPPS)作为可替代设施。结合实际工程案例,采用动态模拟法分别计算基本控制系统、...
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全钢载重子午线轮胎胎圈气泡原因分析及解决措施
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《轮胎工业》2018年 第6期38卷 372-374页
作者:岳爽 张铃欣 陈银川风神轮胎股份有限公司河南焦作454003 
分析全钢载重子午线轮胎胎圈气泡产生的原因,并提出解决措施。通过控制内衬层和胎侧耐磨胶的胶料粘性,优化过渡层和气密层的差级设计、边厚,优化胎圈部位材料分布,加宽过渡层、减窄气密层及合理设计胎侧隔离胶片宽度和敷贴位置,并且使...
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全钢载重子午线轮胎缺胶的原因分析及解决措施
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《轮胎工业》2021年 第2期41卷 115-118页
作者:岳爽 陈银川 王小刚 武洋风神轮胎股份有限公司河南焦作454003 
分析全钢载重子午线轮胎缺胶的原因,并提出相应的解决措施。采取提升胎坯外观质量,控制胶料粘性,优化胎侧和三角胶等半成品的结构设计和材料分布,优化模具排气设计,选择合适的硫化胶囊和定型参数以及规范工艺操作和定期检修模具和设备...
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稀散金属铼功能材料的设计合成及催化烯烃环氧化
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《辽宁大学学报(自然科学版)》2014年 第2期41卷 97-101页
作者:臧树良 房大维 李俊 岳爽 谷学军辽宁省稀散元素重点实验室辽宁大学化学院辽宁沈阳110036 
在前期研究基础上,以席夫碱为配体,合成了改性MTO配合物,将其应用于烯烃的环氧化反应,效果良好.根据催化历程,采用分子设计,合成了对空气和湿气稳定的铼离子液体,应用于同一体系,效果极大地超越同类催化剂,实现了99%以上的选择性和较高...
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CMP精准过程控制系统数据库的设计
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《电子工业专用设备》2020年 第3期49卷 18-22页
作者:白琨 贾若雨 李嘉浪 岳爽北京烁科精微电子装备有限公司北京100176 
CMP设备通过精准过程控制系统(Precision Process Control,PPC)可以精准计算抛光时间。而在这一过程中,需要存储大量的抛光历史数据、晶圆厚度量测数据、计算中间值和模型配置信息等。这些数据信息数量巨大、关系复杂,并且在计算过程中...
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