摘要：高功率脉冲反应磁控溅射技术具有放电等离子密度高、溅射材料离化率高和绕镀性好的特点,已被广泛用于金属氮化物强化涂层的设计制备,但受沉积过程实时在线诊断困难,决定涂层结构性能的关键等离子体特性尚不清晰。基于自主研制的高功率脉冲磁控溅射装备,采用Langmuir探针研究不同N_(2)流量下CrN_(x)涂层的反应等离子体放电特性与组分结构变化。固定溅射功率为3 kW,随着N_(2)流量从10 mL/min增加至75 mL/min,放电峰值功率密度和电子能量分布函数中的高能电子比例均呈现先上升后降低趋势,在55 mL/min N_(2)流量时达到最高值,其峰值功率密度为320 W/cm^(2)。分析表明,当通入过量N_(2)时,靶中毒程度加剧,因表面生成CrN_(x)化合物的二次电子发射系数低于Cr,近基体区电子密度从3.9×10^(17)/m^(3)逐渐下降至2.2×10^(17)/m^(3),低密度离子入射降低了沉积粒子的热扩散迁移长度,使得涂层呈现CrN(220)晶面择优柱状生长。

摘要：2013年第四季度,湖南卫视重磅推出一档亲子互动真人秀节目《爸爸去哪儿》。节目一经推出,收视屡创新高,同时在全国范围内也引发了对"家长如何教育孩子""父子(女)关系如何处理"等一系列问题的讨论。节目取得成功,受到了广泛关注,但其成功之处究竟在哪?对于传媒策划和亲子教育有何借鉴意义?亲子互动真人秀节目如何策划才能做得更好?文章对以上问题进行了初步分析。

摘要：目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜(ta-C)的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。方法采用自主设计研制的45°单弯曲磁过滤阴极真空电弧镀膜设备,进行不同等离子体刻蚀以及ta-C薄膜的沉积。使用等离子体发射光谱仪表征离子种类及其密度,使用椭偏仪表征薄膜厚度,原子力显微镜表征刻蚀后的基体粗糙度,拉曼光谱仪和XPS表征薄膜结构,TEM分析薄膜的膜基界面结构。结果辉光刻蚀工艺中,作用的等离子体离子以低密度的Ar离子为主;而电弧刻蚀时,作用的等离子体离子为高密度的Ar离子和少量的C离子,并且能够在基体表面形成约15 nm的界面层,并实现非晶碳膜(a-C)的预沉积。随电弧等离子体刻蚀时间增加,ta-C薄膜的sp3含量有所降低。结论相比于辉光刻蚀,电弧刻蚀利于制备较厚的ta-C薄膜。这主要是因为电弧刻蚀时,基体表面形成良好的界面混合层,并预沉积了非晶碳膜,形成a-C/ta-C的梯度结构,有助于增强膜基结合力。

摘要：由膜片、钢索、支承结构、基础结构通过节点的有效连接而组成的薄膜结构,以其结构重量轻、跨越能力强、施工速度快、抗震性能好、建筑造型丰富等优点得到众多建筑师的青睐。节点构造设计作为膜结构设计中的一个重要环节,不仅关系到膜结构的建筑艺术效果,还关系到结构的整体性和可靠度。针对膜结构节点破坏的问题,以PVC膜材为研究对象,有针对性地选择了膜结构工程中常用的两种连接方式:螺栓夹板连接和U形夹具连接,通过模拟和试验的方法,探究了膜结构节点连接中不同因素对膜面节点强度的影响。通过正交模拟分析和正交试验研究得到了不同因素以及同一因素下不同取值对膜面节点强度影响大小的先后顺序,并从中得到了膜面连接方面的最优水平组合:螺栓间距为80mm,边绳直径为8mm,摩擦系数0.5,垫板厚度10mm的钢板或铝压板。在实际工程同等因素下对于膜结构的节点设计建议优先考虑螺栓间距和边绳直径,橡胶垫片和垫板的厚度可根据现场的施工条件选取即可。

摘要：逆合成孔径雷达(Inverse Synthetic Aperture Radar,ISAR)图像横向定标是获取目标外形和尺寸信息的关键,重点是目标转角的估计。提出了一种基于特征匹配的ISAR图像横向定标方法,将回波数据等长且相邻的ISAR卫星图像用Harris和SIFT算法提取特征点,然后利用随机采样一致性进行特征点配准,最后建立坐标位置差代价函数估计目标转角,完成ISAR图像横向定标。采用卫星仿真数据对算法进行了验证,实验结果表明该算法能够准确估计横向定标因子,定标精度高。

摘要：随着我国建筑业的高速发展,作为国民经济增长的支柱产业在能源利用方面、环境保护方面还处于起步和探索阶段,所面临的环境问题以及能源问题表现的越来越突出。依据我国低碳经济的发展目标和新能源发展规划,需要不断的创新建筑设计理念,在建筑的设计施工过程以及使用期间提高能源利用效率。本文就基于可持续发展的低碳建筑设计理念进行分析,对可持续建筑以及低碳设计方法进行详细的研究,为从事低碳建筑工程施工提供参考资料。