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水解-刻蚀法制备CuMnO_2纳米片阵列薄膜及其催化性能: 收藏
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引用; 《化工学报》2016年第10期67卷 4196-4202页; 作者：朱倩李二锐周晨许艺术张颖朦王凯杨则恒张卫新合肥工业大学化学与化工学院安徽合肥230009; 以Cu O纳米片阵列为前体,通过水解-刻蚀法在水热条件下制备出了Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜。由于同时存在具有催化活性的Cu(Ⅰ)和Mn(Ⅲ),Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜对催化H2O_2氧化降解亚甲基蓝(MB)溶液具有优异的效果。进一步放大实验表明,...; 以Cu O纳米片阵列为前体,通过水解-刻蚀法在水热条件下制备出了Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜。由于同时存在具有催化活性的Cu(Ⅰ)和Mn(Ⅲ),Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜对催化H2O_2氧化降解亚甲基蓝(MB)溶液具有优异的效果。进一步放大实验表明,该Cu Mn O_2薄膜具有稳定的催化性能。基于基底生长的薄膜催化剂能够解决粉体催化剂容易团聚、分离回收困难和容易造成二次污染等问题,在染料废水处理方面具有很好的工程应用前景。; 来源：详细信息评论

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