摘要：麦积山石窟保存的大量壁画是研究石窟壁画艺术与佛教文化的珍贵实物资料。利用悬浮沉淀法、纤维形貌观察法,结合X射线荧光、X射线衍射、激光粒度分析、拉曼光谱等检测方法对麦积山131窟壁画残块地仗层及其添加物、颜料层进行科学检测分析。分析结果表明:131窟壁画地仗层使用的黏土应该是麦积山周边稍远地区的天然细质黄土,且粗、细泥层中均人为添加有砂粒,但粗泥层中添加砂粒较细泥层更多、颗粒较大且颗粒度不均匀。粗泥层中添加纤维为麦衣、麦秆,细泥层添加麻纤维。壁画烟熏污染物主要显色物质为燃料燃烧产生的炭黑,红色颜料主要是铅丹、朱砂、铁红,白色底色层的成分是方解石。研究结果不仅为探讨麦积山石窟壁画材质与制作工艺提供了基础数据,而且对后期壁画的保护修复也具有一定的指导意义。

摘要：在科技飞速发展的时代,文物病害图作为文物档案的重要组成部分,也紧跟时代步伐不断改进和完善,随着一些新技术的应用,逐渐形成行业标准,达到全国规范化。其中,AutoCAD2004绘图软件由于操作简单、绘图精准等优越性,现已广泛应用于国内文物测绘及病害图绘制中。

摘要：石窟寺古代壁画病害与其赋存环境中温湿度变化密切相关。本研究对世界文化遗产地麦积山石窟存在多种病害的第32窟所处大环境、洞窟微环境及壁画内环境中温湿度变化特征进行了比较研究。结果表明第32窟温湿度日较差月均值在夏季最小,冬季最大。温湿度月极大值与外环境变化相似,相对湿度受降雨影响明显。降雨后洞窟依存的山体内水分对洞窟内相对湿度有显著影响,并随洞窟深度增加而影响增大。窟内壁画病害类型与其所在位置温湿度的变化高度关联,微生物病害与空鼓脱落病害的发生主要与相对湿度季节性波动相吻合,而起甲病害主要与温度的频繁波动相对应。本研究可为石窟壁画病害机理阐释及预防性保护提供科技支撑。

摘要：该研究以麦积山第80窟原地仗为目标样,以石窟周边及根据经验选择的土样为对比样,通过矿物成分、色度、颗粒度、可溶盐含量分析,探讨了其差异程度。结果发现,石窟周边土样与原地仗矿物成分差异较小,为8.2%,但色度和颗粒度相差较大,分别为3.1和17.8%;经验选择土样与原地仗相比,矿物成分差异浮动较大,为6.6%~27.9%,色度差异适中,为1.6~1.9,但存在4.7特异值,颗粒度差异相对比较集中,为13.3%~16.2%,可溶盐含量均小于1%。“就地取材”选土并不完全适用,经验选土差异浮动较大。石窟壁画地仗修复用土选择应在考虑“就地取材”的基础上增选邻近区域,通过仪器分析比对选择与原地仗最接近土样。麦积山第80窟的修复土样筛选中,下曲最为接近,建议选用。

摘要：热湿环境变化与麦积山石窟病害密切相关,强降雨天气和洞窟自然通风是窟内热湿环境变化的直接原因。文中对强降雨天气下第126窟窟内外热湿环境及自然通风的相互关系进行分析,结果表明:窟外风速小于1.5m/s时,窟内风速与窟内外温差的开方值呈线性关系,且窟内外温差不会导致窟内风速超出ASHRAE推荐的上限值0.25m/s。随着窟外风速的升高,窟内外温差对窟内风速的影响逐渐减弱。窟外风速超过1.5m/s时,窟内风速开始出现超出0.25m/s的情况,应采取一定的预警措施。与主室相比,甬道风速及风速变化梯度均较高,甬道壁画与大气环境之间的热湿交换更加频繁,这是甬道壁画产生病害的根本原因。研究结果可为洞窟内文物赋存环境调控及预防性保护提供一些理论支撑。

摘要：本文选取麦积山石窟进行基于洞窟光环境的窟檐建筑的调控作用研究,以麦积山石窟第4窟为例建立模型,在有无窟檐和窟廊的两种情况下,对洞窟主室进行光环境模拟。通过对模拟结果进行对比分析,验证麦积山石窟窟檐建筑的窟檐和窟廊部分能有效减少日照时数,对窟内环境具有积极的调控作用,有利于保护窟内壁画和佛像。

摘要：麦积山石窟是我国四大石窟之一,保存了大量的古代泥质壁画和塑像,被称为"东方雕塑馆"。目前麦积山石窟的保护面临着严峻的形式,泥塑和壁画产生了多种病害。文章在文物保护的基础上,研究窟内热湿环境的现状及存在的问题。以127号窟为例,对其进行夏季窟内热湿环境的观测与分析,寻找石窟窟内温、湿度的变化规律,为麦积山石窟的保护研究提供必要的参考。

摘要：设计并实现了一种二维纳米器件多功能制备系统,该系统不仅能够完成二维材料的高效转移,还能够实现金属电极的准确淀积,从而实现二维器件的高效、一体化制备。利用该系统,成功制备了基于二维半导体的纳米机电谐振器,并对器件进行了机电谐振幅频特性的测试。研究结果表明,设计的二维纳米器件多功能制备系统在纳米谐振器制备与研究中极具潜力。

摘要：原子级厚度的二维层状晶体材料具有丰富的物理特性,在新型微纳米器件领域展现出重要的发展潜力,相关的器件制备和性能研究也引起了广泛的关注.二维材料微纳米器件的制备需要经过二维材料的转移及金属电极的淀积等一系列过程.然而,在传统的制备流程中所涉及多步工艺需要用到诸多不同设备,如二维材料转移对准系统、电子束曝光系统,或是光刻系统,而且往往在一些步骤中涉及有机溶液处理,有可能会对样品带来一些不利的影响.本文设计展示了一种能够实现二维材料微纳米器件制备的多功能系统,该系统不仅可以实现二维材料的高效转移,而且可以直接进行金属电极的准确淀积,并且整个加工流程不涉及溶液处理,具有操作方便、效率高、样品污染少等优点.基于该多功能系统,我们成功制备出了MoS;场效应晶体管并对器件进行了光学表征和电学性能测试,展现了这一系统在高效制备微纳器件方面的潜力.