摘要：家庭自动化无线传感器/执行器网络有着自己的特点,如节点间供电能力、计算能力、移动性具有显著差异,本文在分析这些差异的基础上提出一种基于地理位置的按需路由协议.该路由协议利用静态节点位置限定路由请求包,并且利用静态邻居节点作为辅助节点完成动态节点的路由发现,避免了对移动节点定位技术的依赖性.利用NS2比较了该路由协议和AODV路由协议的性能.仿真结果显示本文的路由协议能降低路由开销从而提高稳定性.

摘要：崔寔的《政论》和徐干的《中论》是东汉政论散文的代表作。同为东汉中后期社会批判思潮的产物,两篇文章在内容与主题上有诸多相似之处。但是,由于二人主体身份的不同,使他们审视社会问题的角度、出发点等方面存在明显差异;同时,由于受到学识素养、自身个性等因素的影响,二人在进行说理论证时所采用的手法也大相径庭,继而形成了各具特色的行文风格。本文以两部作品的文本为依托,结合二人的身份经历,探讨创作主体身份对文学创作的内容、艺术表现手法及作品风格的影响。

摘要：为模拟和优化电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学(Hunan University,HNU)开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)软件HNU-EBL.该软件实现了以下主要功能:1)基于Monte Carlo方法计算电子束在光刻胶和衬底中的散射过程与运动轨迹;2)基于多高斯加指数函数模型计算拟合出电子束散射的点扩散函数;3)基于GDSII光刻版图文件矩阵化,进行邻近效应、雾效应等校正计算,优化电子束曝光剂量;4)基于卷积计算,计算出给定曝光剂量下的能量沉积密度,并计算出边缘放置误差等光刻加工质量关键指标.基于该软件,通过异或门(Exclusive OR,XOR)集成电路的光刻版图算例,计算在聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)光刻胶和硅衬底中10 kV电子束的光刻工艺过程.通过对比电子束邻近效应校正前后的显影版图,验证了该软件的有效性.在完全相同的计算硬件和算例条件下,与主流同类进口EDA软件进行了对比,证实了在同等精度下,本软件具有更高的计算效率.已建立http://***网站,将HNU-EBL软件免费授权给EBL用户使用.