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用近贴式软X射线光刻术研究DCPA光刻胶的曝光性能
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《光子学报》1995年 第3期24卷 249-257页
作者：郭玉彬 李福田 唐九华 李加 慎微 杜涌兴中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室化工部无锡化工研究设计院 
采用软Ｘ射线近贴式光刻术，对ＤＣＰＡ光刻胶的曝光性能进行了系统研究，得到了一些新的实验结果。
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