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大面积金刚石薄膜沉积系统的研究: 收藏
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引用; 《天津理工大学学报》2008年第1期24卷 21-23,41页; 作者：陈琦常明曲长庆陈发亮沈锋英天津理工大学电子信息与通信工程学院天津300191; 介绍热丝化学气相沉积（HFCVD）法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计，设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路系统，给出了该设备的性能指标参数．该设备可以用于沉积高质量的大面积金刚石膜，沉积的金刚石薄...; 介绍热丝化学气相沉积（HFCVD）法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计，设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路系统，给出了该设备的性能指标参数．该设备可以用于沉积高质量的大面积金刚石膜，沉积的金刚石薄厚膜直径最大可达220mm，膜沉积速率为1～2μm／h．; 来源：详细信息评论

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