摘要：从动力学原理出发对Ｘ射线布拉格－菲涅耳多层膜一维聚焦镜的近似设计理论作了推导，给出了近似方程并对近似理论作了误差分析。同时给出了作者编制的数值化计算机程序系统的设计框图及其设计结果。

摘要：提出用量子散射理论研究X射线波段的新型元件——Bragg-Fresnel元件,并对该元件的设计原理作了详细推导.用矩形函数表述了线性Bragg-Fresnel元件的衍射图形模式并编制了数值化计算机程序系统对其进行设计.最后给出线性Bragg-Fresnel元件的整体设计结果.

摘要：Ｘ射线Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件是近十年发展起来的一种用于Ｘ射线波段的新型光学元件。本文介绍一种具有二维聚焦效能的Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件的设计理论和方法。设计中采用衍射理论并用Ｃ语言编制计算机程序系统对衍射图形进行设计。对于使用波长１３．８ｎｍ，入射角５°，使用焦距２００ｍｍ的使用条件，设计结果为３５Ｍｏ／Ｓｉ双层多层膜，周期厚度７．１４ｎｍ，理论反射率约为６０％；衍射图形共４００个环带，最内环半宽度５２．５μｍ，最外环宽度１．３μｍ。

摘要：在多值量化情况下 ,因量化误差为白噪声的理想条件无法满足 ,故实施误差扩散处理时仅单纯地进行高通滤波 (误差蓝化 )将损害图像固有的低频特性。误差扩散算法中较为理想的误差滤波器应在高频域具有较大增益 ,而在低频域具有有限度衰减。在兼顾滤波器稳定性因素的同时对误差滤波器的脉冲响应进行了重新设计 ,并以此构成了用于彩色图像颜色量化的多色调误差扩散优化处理算法。

摘要：本文提出一种图像直观、结果可靠的软X线多层膜设计方法,讨论了与软X射线多层膜制备有关的基板选择,膜厚控制等工艺问题。给出Mo/Si软X射线多层膜小角度衍射及171λ、231λ及256λ处软X射线反射率的测试结果,并对软X射线多层膜工作做了展望。

摘要：为了满足类氖-锗X射线激光研究的需要,设计制备了23.4 nm软X射线多层膜反射镜。依据多层膜选材原则并考虑材料的物理化学特性选择新的材料Ti与Si组成材料对。设计优化材料多层膜的周期厚度(d),材料比例(Γ),周期数(N),计算出Ti/Si反射率曲线。通过实验优化各种镀膜工艺参数,制备出了23.4 nm的Ti/Si多层膜反射镜。利用X射线衍射仪和软X射线反射率计对Ti/Si多层膜结构和反射率进行检测,测量结果为Ti/Si多层膜反射镜中心波长0λ=23.2nm,正入射峰值反射率为R=25.8%。将Ti/Si多层膜反射镜与软X射线波段常用的Mo/Si多层膜反射镜相比,在23.4 nm处,Ti/Si多层膜反射镜的反射率提高10%,而带宽减小1.8 nm,光学性能显著提高。

摘要：论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在直径为 0 1mm的像方视场内设计分辨率优于 0 1μm。

摘要：采用Ｍｏ／Ｂ４Ｃ材料在短波长波段（λ＜１０．０ｎｍ）进行软Ｘ射线多层膜实验研究。在指定波长（８．０ｎｍ附近）处对多层膜进行结构设计，并制备出了周期结构准确的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ多层膜样品。

摘要：介绍了X射线宽带多层膜材料W和B4C的选定方法,依据伯宁(BERNING)公式确定出了在0.154 nm处X射线宽带多层膜的最佳膜对数.引入适当的评价函数,利用具有全局寻优特性且效率较高的遗传算法,在波长0.154 nm处优化设计出了掠入射角(θ)0.5°～0.9°范围内反射率值达到40%的宽角度宽带多层膜.宽带多层膜反射镜采用磁控溅射方法制备,并用X射线衍射仪对样品进行了检测,结果表明在掠入射角(2θ)1.0°～1.8°之间的相对反射率光谱曲线比较平坦.

摘要：介绍研制８．０ｎｍ波长附近正入射Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜的初步研究结果。讨论了包括镀膜材料的选择、多层膜结构设计及多层膜性能模拟计算和用磁控溅射法制备多层膜的镀膜工艺等在内的多层膜制备过程，并对制备的软Ｘ射线多层膜进行了结构测试。制备出的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜将主要用于Ｘ射线激光打靶实验中。这是目前国内首次开展的１０．０ｎｍ波长以下实用软Ｘ射线多层膜反射镜的研究工作。