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二元光学器件光刻掩模的设计与制作
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《长春理工大学学报（自然科学版）》2007年 第4期30卷 40-43页
作者：孙艳军 陈宇 曹子维 何显宗长春理工大学光电工程学院长春130022 长春理工大学电子信息学院长春130022 
针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及套刻制作的特点,采用相位转化的方法对光刻掩模进行了结构参数的优化设计。探讨了掩模制作的工艺过程,采用激光直写方法制作出三块不同参数的掩模。同时,对关键技术环节进行了研究,...
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