摘要：袁江是清初个性风格鲜明的职业画师,在文人画盛行的时代不为彼时的画史所显。袁江的作品大多有确切的署年款,这样使我们对其作品风格的形成演变有了整体的鉴赏认知。最富有特色的青绿界画奇观山水新样式可视为他艺术一生的主体创作,其创作立意、绘制手法、设计特色中所蕴含的时代审美文化内涵,使之成为十八世纪江南文化产业现代性的典型代表,袁江青绿界画“有清一代推为第一”当之无愧。

摘要：随着BIM技术的推广与发展,该技术对不同类型工程的应用指导类研究也在不断深入。芜湖市轨道交通1号线6标段共含有7座钢结构车站,均为路中高架3层侧式站台。钢结构车站施工过程中引入BIM技术,包括搭建BIM钢结构模型,进行深化设计,利用BIM软件模拟计算,进行吊装方案设计。同时,对处于复杂环境下的特殊车站,采用BIM技术优化施工方案,提高施工质量,确保施工安全。BIM技术在钢结构车站施工中的应用,成功解决了实际问题,克服了复杂条件下车站钢结构施工的难题,可为今后的钢结构车站施工提供技术参数和施工经验。

摘要：苏轼的书法早年师法王羲之,他对苏轼产生了深远影响,得到了苏轼毕生的推崇。苏轼对王羲之的继承,从书法技法层面上升到书法的审美和精神层面,这直接影响到苏轼尚意书风的开创。苏轼是在继承王羲之的基础上,师法古今优秀名家,而成为宋人尚意书风的开创者,名列"宋四家"之首。

摘要：社旗县位于人文荟萃、物产丰饶的南阳盆地东沿．辖15个乡镇，总面积1203平方公里，耕地128．4万亩，总人口64．8万。历史悠久，文化灿烂，西有隋唐冶炼重镇桥头镇，东有楚汉争雄的霸王山，南有融中外建筑艺术为一体的太和转楼．中居集皇宫、庙宇、商馆、园林建筑艺术为一体的清代建筑群。属国家商品粮基地县、优质棉花基地县、国家级肉牛丰收计划县和秸秆养畜示范县。

摘要：地铁施工中对既有建筑物产生一定的影响,施工期间需制定相应的沉降控制标准。由于建筑物结构形式千差万别,沉降标准也随之改变。目前,国内这方面的相关技术规定较少,大部分处于研究探索阶段,给施工期间的变形控制带来诸多不便。以北京地铁五号线施工中下穿建筑物的几个实例作为分析对象,对施工中既有建筑沉降控制标准的制定提出参考意见。

摘要：纤维增强复合材料的制孔工序是实现复合材料结构件连接的重要环节,复合材料的各向异性和层间强度低极易导致分层缺陷,而制孔质量直接影响复合材料零部件物理性能的发挥和安全服役中的可靠性。因此,必须对复合材料制孔的分层缺陷进行检测并加以评价,用以优化刀具设计和加工工艺参数。该文在简要阐述制孔分层缺陷产生机理的基础上,首先,重点分析渗透液、光学、渗透X射线、常规超声C扫描、工业CT和超声显微镜6种分层缺陷检测方法的基本原理、特点及研究进展;然后,分类总结制孔分层缺陷的7种定量评价因子;最后,讨论复合材料制孔缺陷在线监测与评价的可行性和所面临的技术挑战。

摘要：针对具有复杂空间中心曲线的高速铁路用ω弹条的几何建模,提出了一种基于逆向工程技术的建模方法.首先借助三坐标测量机获取ω弹条表面的点云,然后由同一垂直断面上的三点拟合截面圆,再将系列圆心依次相连为实体中心线,最后采用SOLDWORKS软件的曲线投影技术,实现∞弹条的逆向三维几何建模.给出了点云的误差控制方法,最优点云点数的有效利用率为96%,成圆率97%,满足逆向建模要求,为具有统一截面圆的零件逆向建模提供参考.利用得到的中心曲线,进行曲线拟合,得到曲线分段多项式数学表达,为后续优化设计提供高效参数化建模解决办法.

摘要：现行规范对填充墙框架结构体系抗震设计方法存在不足之处.针对砌体填充墙框架结构水平地震作用下的受力特点,结合填充墙的破坏特征,建立墙框协同作用简化分析的空间等效斜撑力学模型,在保持框架结构质量分布基本不变的情况下,分别对两类填充墙竖向均匀、不均匀布置的带楼板框架结构和无填充墙仅带楼板框架结构进行不同加载模式下的静力弹塑性分析,研究结构的基底剪力-顶点位移关系曲线、不同地震水平作用下结构层间位移角以及塑性铰的发展情况,并对填充墙框架结构规范提供的设计方法进行安全评估.研究结果可为框架结构的抗震设计、评估及加固提供参考.

摘要：阐述电力二次系统是对电力一次设备的调节、控制、监测和保护,探讨二次系统网络安全中的风险、隔离目标与特点,分析网络安全隔离分区技术,按照等级保护2.0的通用设计框架关键技术。

摘要：为研究保护环结构对平面型正照射式InP/InGaAs探测器光敏元扩大现象的抑制作用,设计并研制了带有不同保护环-光敏元间距的InGaAs探测器.通过原子力显微镜（AFM）及扫描电容显微镜（SCM）获得了保护环与光敏元之间的实际距离.利用激光束诱导电流（LBIC）技术研究了带有保护环结构的InGaAs探测器的光响应特性.研究表明,无保护环结构的探测器的LBIC信号可以用指数衰减函数描述,而带有保护环结构的探测器的LBIC信号则遵从高斯分布.引入保护环结构后,器件光敏元的扩大量会随着保护环-光敏元间距的减小而线性减小.在器件设计中,比较合适的保护环-光敏元间距应介于7~12μm之间.