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基于熵权TOPSIS模型评价涝渍条件下冬小麦水位管理方案
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《排灌机械工程学报》2018年 第12期36卷 1306-1311页
作者:缪子梅 李竞春 陈栋江苏大学农业装备工程学院江苏镇江212013 淮安市水利勘测设计研究院有限公司江苏淮安223005 
为了选取基于资源、环境、效益相统一的水位调控方案,通过调节农田水位,制定了不同的排灌方案模拟冬小麦不同生育期的涝渍胁迫状况.将熵权法和TOPSIS模型有机结合,从冬小麦的高产、水资源的高效利用、减少农业面源污染3个方面选取4个指...
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低噪声CMOS电荷敏放大器设计与研制(英文)
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《电子科技大学学报》2003年 第2期32卷 146-148,163页
作者:于奇 杨谟华 李竞春 王向展 肖海燕电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 
提出了一种新的低噪声低功耗电荷敏感放大器设计方案。用EDA软件Cadence进行模拟,得到了满意的仿真结果:直流开环增益为82.9 dB,f-3dB为28 kHz,相位裕度为46.9 ,低频下输出噪声频谱密度为1.5 mV/Hz2。采用标准的3 mm P阱CMOS工艺进行了...
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喷灌条件下茶园土壤肥力与茶叶品质指标
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《排灌机械工程学报》2018年 第6期36卷 524-528页
作者:缪子梅 李竞春 陈栋 王维汉江苏大学农业装备工程学院江苏镇江212013 淮安市水利勘测设计研究院有限公司江苏淮安223005 浙江水利水电学院教务处浙江杭州310018 
在喷灌条件下水分调控的基础上,采用田间试验研究了茶园土壤肥力指标(包括土壤氮素、土壤温度)与茶叶品质指标(包括氨基酸、茶多酚)的动态变化规律.研究结果表明,喷灌条件下茶园表层土壤总氮(TN)质量比最高,随着土层深度的增加,TN质量...
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SiGe HBT噪声的研究进展
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《微电子学》2006年 第5期36卷 559-564页
作者:杨洪东 周谦 李竞春 杨谟华电子科技大学电子薄膜集成器件国家重点实验室四川成都610054 
噪声对RF电路设计非常关键,故需要对SiGe HBT噪声特性进行深入研究。根据器件的高频噪声模型,指出了影响SiGe HBT高频噪声参数的主要因素,论述了优化设计的具体方法;举例说明尺寸缩小使得高频噪声性能已经达到了GaAs pHEMT的水平,fT达到...
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硅基片上螺旋电感宽带物理模型
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《电子与信息学报》2007年 第5期29卷 1254-1257页
作者:郑薇 王向展 任军 杨帆 尤焕成 李竞春 杨谟华电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 
针对高损耗硅衬底,基于部分元等效电路方法和麦克斯韦电磁场理论,计入了趋肤效应、邻近效应和衬底涡流损耗对螺旋电感串联电感Ls与串联电阻Rs频率特性的制约,并通过nπ等效电路结构模拟了寄生电容的分布特性,从而建立了一种新的片上螺...
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一种基于准分子激光退火的GeSn合金生长新技术
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《微电子学》2013年 第2期43卷 274-277页
作者:周谦 杨谟华 王向展 李竞春 罗谦电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 
针对源漏诱生应变Ge沟道MOSFET的应用前景,开发了一种基于离子注入与准分子激光退火的GeSn合金生长技术。X射线衍射与透射电镜测试结果表明,采用该技术可得到质量优良的GeSn单晶。材料表面平整,无位错缺陷产生,与快速热退火方式相比,晶...
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MOSFET衬底电流模型及参数提取
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《微电子学》1999年 第3期29卷 174-177页
作者:刘永强 于奇 刘玉奎 李竞春 陈勇电子科技大学微电子科学与工程系 电子工业部第二十四研究所 
在短沟道MOSFET器件物理的基础上,导出了其衬底电流解析模型,并通过实验进行了模型参数提取。模型输出与短沟MOSFET实测结果比较接近,可应用于VLSI/ULSI可靠性模拟与监测研究和亚微米CMOS电路设计。
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一种应用于10位逐次逼近ADC的比较器设计
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《电子与封装》2010年 第5期10卷 17-21页
作者:肖培磊 胡小琴 李竞春电子科技大学成都610054 
文中提出了一种应用于10位逐次逼近ADC的比较器。该比较器包括预放大器、中间放大器、输出驱动级及共模电平缓冲器。整体开环设计,采用多级级联的形式以满足增益和速度的要求;采用输出失调消除技术进行失调校正;为了提高共模电平的驱动...
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星点设计-响应面法优化傣药竹叶兰总黄酮超声-双水相提取工艺
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《中成药》2010年 第12期32卷 2059-2063页
作者:付艳丽 高云涛 李竞春 贝玉祥 王辰 王明华云南民族大学化学与生物技术学院云南昆明650031 
目的:确定傣药竹叶兰中总黄酮物质的最佳提取工艺条件。方法:以芦丁为指标应用超声耦合丙醇-硫酸铵双水相体系提取竹叶兰中总黄酮物质,采用星点设计-响应面分析法优化提取工艺条件,考察丙醇浓度、硫酸铵用量、超声时间3个因素对竹叶兰...
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适于PMOSFET的局部双轴压应变Si_(0.8)Ge_(0.2)的生长
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《材料导报》2010年 第16期24卷 1-4页
作者:卢盛辉 杨洪东 李竞春 谭开州 张静电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室成都610054 中国电子科技集团第二十四研究所模拟集成电路国家重点实验室重庆400060 
通过控制局部双轴压应变SiGe材料的缺陷、组分与厚度,设置了多晶Si侧壁与Si缓冲层的特别几何结构,采用固态源分子束外延MBE设备生长了适于PMOSFET器件的局部双轴压应变Si0.8Ge0.2材料。经SEM、AFM、XRD测试分析,该材料表面粗糙度达0.45n...
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