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阈值可控型三值忆阻仿真器的设计与实现
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《实验技术与管理》2023年 第4期40卷 82-89页
作者:林弥 韩琪 罗文瑶 吕伟锋杭州电子科技大学电子信息学院浙江杭州310018 
忆阻器具有尺寸小、速度快、功耗低等优势,在数字逻辑、数据存储、人工智能等领域具有广泛应用。多值忆阻器的多阻值状态能够提高信息密度、处理更多信号、减小芯片面积、降低电路复杂度,具有非常好的发展前景和研究价值。该文以三值逻...
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基于稳健神经网络的CMOS电路开关级设计
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《浙江大学学报(工学版)》2004年 第7期38卷 835-838页
作者:王柏祥 林弥 吕伟锋浙江大学信息与电子工程学系浙江杭州310028 
基于数字电路开关级设计的优越性、稳健布尔神经网络和开关级电路结构的相似性,提出了一种基于稳健布尔神经网络的互补金属-氧化物半导体(CMOS)晶体管电路的开关级设计方法.该方法通过神经元激活函数推导开关级电路的开关函数,同时引入...
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基于复数权神经元的布尔函数稳健学习算法
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《电子学报》2011年 第11期39卷 2708-2712页
作者:吕伟锋 林弥 孙玲玲杭州电子科技大学教育部射频电路与系统重点实验室浙江杭州310018 浙江大学超大规模集成电路设计研究所浙江杭州310027 
复数权神经元由于引入了多阈值逻辑而具有更强的性能.文中根据其数学模型,结合二进感知器神经元稳健设计概念,提出了该神经元的稳健性数学定义,并根据定义,得到了简单逻辑和异或逻辑的单个神经元稳健实现方案.然后根据该方案提出了任意...
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混合型CMOS-忆阻与非/或非单元的设计及应用
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《杭州电子科技大学学报(自然科学版)》2023年 第2期43卷 13-18页
作者:饶历 李路平 林弥杭州电子科技大学电子信息学院浙江杭州310018 
针对级联型运算单元的延迟问题,设计了一种新的CMOS-忆阻与非/或非逻辑电路结构。首先,采用阈值型压控忆阻器模型,以忆阻器和CMOS晶体管为核心,设计了一款混合型CMOS-忆阻与非/或非逻辑运算单元,有效减小了延迟时间;然后,将混合型CMOS-...
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RTD电路的可测试性设计
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《浙江大学学报(工学版)》2004年 第11期38卷 1436-1440,1473页
作者:骆健 林弥 徐丽燕 王林 陈偕雄 金心宇浙江大学信息与电子工程学系浙江杭州310027 杭州电子科技大学电子信息学院浙江杭州310018 
针对共振隧穿二极管(RTD)电路由于具有超高集成度特点所带来的电路测试困难,在故障分析与故障模型的基础上提出了RTD电路的可测试性设计方案.该方案基于RTD电路开关级模型,针对电路基本的开路、短路故障合理增加控制端,利用控制端信号...
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基于MOBILE的JK触发器设计
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《Journal of Semiconductors》2004年 第11期25卷 1469-1473页
作者:沈继忠 林弥 王林浙江大学信息与电子工程学系杭州310028 杭州电子科技大学电子信息学院杭州310018 
介绍了一种新型量子逻辑单元电路——单稳双稳转换逻辑单元及其工作原理 ,在此基础上探讨并设计了以MOBIL E为基本单元电路的具有同步置位复位功能的边沿型 JK触发器电路 。
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基于RT器件的三值与非门、或非门电路设计
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《Journal of Semiconductors》2007年 第12期28卷 1983-1987页
作者:林弥 吕伟锋 孙玲玲杭州电子科技大学电子信息学院 
共振隧穿(resonant tunnel,RT)器件本身所具有的微分负阻(negative differential resistance,NDR)特性使其成为天然的多值器件.文中利用RT器件的负阻特性,以开关序列原理为指导,设计了基于RT电路的开关模型,实现了更为简单的三值RT与非...
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改进型三值RTD量化器的设计
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《电路与系统学报》2012年 第2期17卷 124-128页
作者:林弥 张海鹏 吕伟锋浙江大学信息与电子工程学系浙江杭州310027 杭州电子科技大学电子信息学院浙江杭州310018 
共振隧穿二极管RTD本身所特有的负阻微分特性使其成为天然的多值器件。介绍了三值RTD和三值RTD+HEMT的伏安特性以及三值RTD量化器和开关序列的工作原理,以RTD开关序列模型为指导思想设计出改进型三值RTD量化器电路,比原电路结构简单,仿...
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混合型CMOS-忆阻异或逻辑单元设计及其应用
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《杭州电子科技大学学报(自然科学版)》2022年 第5期42卷 7-12页
作者:王旭亮 林弥 陈俊杰 韩琪 罗文瑶 吕伟锋杭州电子科技大学电子信息学院浙江杭州310018 
以忆阻器和CMOS晶体管为核心,首先,设计了一款可进行逻辑转换的混合型CMOS-忆阻异或逻辑单元,通过改变输入信号即可实现异或和2选1数据选择器功能;然后,在忆阻异或电路的基础上,搭建了由2个异或和1个2选1数据选择器电路构成的全加器电路...
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随机栅长变化引起纳米MOSFET失配模型
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《计算机辅助设计与图形学学报》2016年 第7期28卷 1175-1179页
作者:吕伟锋 王光义 林弥 孙玲玲杭州电子科技大学教育部射频电路与系统重点实验室杭州310018 
随着CMOS技术进入纳米工艺,随机栅长变化成为影响集成电路性能和成品率最重要因素之一.文中分析并验证了纳米MOS器件随机栅长变化导致电流增益因子与阈值电压的之间的相关性及失配解析关系式,并以此为基础,结合偏差传递理论实现了22 nm...
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