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射频辉光放电等离子体化学气相沉积类金刚石膜的性能研究
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《真空科学与技术》2002年 第5期22卷 379-381页
作者：陈灵 刘正义 邱万奇 黄元盛 刘铁林 欧阳光胜华南理工大学机械工程学院广州510640 深圳市雷地科技实业有限公司深圳518048 
用自行设计的RF PCVD(射频辉光放电等离子体化学气相沉积 )设备沉积类金刚石膜 ,并对膜的力学、光学、化学性能进行了分析。表明用该设备制备的类金刚石膜具有显微硬度高、磨擦系数小、膜基结合力高、对红外有良好的增透性 ,并且耐磨耐...
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