摘要：针对高精度干涉式光纤陀螺方案的技术特点,为了提高陀螺精度,提出了基于直流对消与时域梳状滤波的前置放大器设计方法。首先在对光纤陀螺前放输入信号特征进行分析的基础上,针对信号微弱、信噪比低、包含有周期性的尖峰脉冲等特点,理论分析了前放信号的带宽、增益及低噪声等参数,提出了相应调理措施。其次依据调理措施,设计了采用直流对消、时域梳状滤波和两级放大滤波的宽带前放电路,并计算了相关参数。陀螺实验表明,该前放电路能将零漂在0.05(°)/h以上的陀螺降低为0.047(°)/h,证明设计的前放电路对于提高陀螺的精度指标是有效的。

摘要：基于典型圆锥运动输入,研究、分析了旋转矢量算法中圆锥补偿误差的变化规律。从理论上推导、分析了基于角速率的旋转矢量算法及其圆锥补偿误差与旋转矢量算法本身、基座动态特性之间的关系;在假定没有传感器测量误差的前提下,结合仿真,得出旋转矢量算法的圆锥补偿误差与捷联惯组的采样频率f以及圆锥运动频率ω的关系,给出了圆锥补偿误差随f/ω的变化规律,确立了旋转矢量算法具有圆锥误差补偿效应的(f/ω)的极限值:(f/ω)≥3。研究结果对捷联惯组的设计及其在高动态环境下的应用具有一定的参考价值。

摘要：系统研究和分析了国产超辐射发光二极管(SLD)光源的热敏电阻器的全温温度特性。试验和分析结果表明:不同SLD光源内的热敏电阻器特性存在不一致性,而不同厂家的光源之间的这种不一致性更为显著;部分厂家的SLD光源的监测热敏电阻器与控制热敏电阻器差异较大,已失去监测价值;热敏电阻器与温度的关系更接近Steinhart-Hart方程,而非普遍使用的指数形式;在中精度光纤陀螺的温控范围内,热敏电阻器的温度系数为435±10Ω/℃,而不是普遍认为的500Ω/℃。该结果一方面为设计数字化温度控制方案提供了更为严格的热敏电阻器的温度模型,另一方面,细化了光源温控精度的评价标准,可进一步提高温控效果。

摘要：采用时域有限差分法讨论了由二氧化硅介质柱构成的8重准晶结构光子晶体的带隙特性。数值模拟结果表明,该结构的光子晶体对TM模存在较宽的光子带隙,而对TE模不存在光子带隙;光子带隙的中心频率随着填充因子的增大向低频方向移动;相对带隙宽度随着填充因子的增大呈现先增大后减小的趋势,并在填充因子r/a为0.29时存在最大值,该带隙可以覆盖1.55μm附近44nm的宽度或1.31μm附近37nm的宽度,足以用于设计和制作准晶结构的光子晶体光纤等光通信器件;光子带隙的位置和宽度均与入射光的方向无关,带隙的这种各向同性使基于该结构的新型器件的制作有更大的设计自由度。

摘要：针对光纤陀螺光源驱动控制特点,设计了一种新型高精度超辐射发光二极管(SLD)光源驱动控制系统。恒流源输出电流稳定且光源保护措施可靠,温控系统以高性能TEC控制器ADN8831为核心,功耗低,体积小且集成度高。测试结果表明:该系统性能优良,操作方便,恒流精度可达0.01%,温控精度优于0.005℃,光源输出光功率在-40～+70℃范围内比较稳定,能够满足光纤陀螺系统对光源控制精度和稳定性的要求。

摘要：为提高光纤陀螺用超辐射发光二极管(SLD)光源的稳定性,实现光源性能检测和评价的灵活性,在光源工程化生产中常采用数字化控制系统对光源进行控制。以SoC单片机C8051F060为控制检测平台,结合高性能TEC控制器ADN8831和数字PID控制算法,设计了一种新型小型化光源数字控制系统。实验表明,该光源数字化控制系统体积小、精度高、操作灵活、可扩展性强,具有良好的实用价值。

摘要：针对多通道超辐射发光二极管(SLD)检测系统光源驱动的特点,以现有SLD驱动电路为基础,通过采用高精度集成运放、集成功放和一级积分器,提高恒流源、温控精度和电路抗干扰能力的同时减小了系统体积。测试表明:恒流源的稳定度达到0.02%,温度控制的精度优于0.002℃。该设计有利于多通道SLD光源检测设备的产生,对提高SLD光源驱动电路的精度和研制小型化的SLD光源驱动仪具有借鉴意义。

摘要：针对某陀螺生产厂家新引入的超辐射发光二极管光源在原光源驱动设备上的功率变化异常的问题,对光源温控环节的传递函数和相应控制参数进行了理论和试验分析。相比陀螺常用SLD光源,新引入SLD光源内部热敏电阻与SLD管芯间距大得多,且不在同一热沉上,这使得该厂光源温控部分的传递函数出现明显时间滞后,表现为其对微分环节依赖性增强。通过对原光源驱动设备上微分环节的优化设计,可使热敏电阻位置相差较大的不同厂家的光源同时获得良好温控效果。上述结果对于理解SLD光源温控PID(比例-积分-微分)参数差异性、提高SLD光源温度控制适应性提供了客观依据。

摘要：简要介绍了国内外三聚氰胺生产工艺情况,对山东海化魁星公司开发的改良低压法三聚氰胺生产技术及三聚氰胺生产尾气与尿素联产的工艺技术进行了论述。

摘要：简述了甲烷化工艺的特点,分析了脱除原料气中微量有害成分对甲烷化工艺的重要性。并对甲烷化与铜洗工艺进行了成本比较。