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基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计
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《电子学报》2024年 第7期52卷 2161-2169页
作者:陈喆 王品清 周培根 陈继新 洪伟东南大学毫米波全国重点实验室江苏南京211111 
本文基于45 nm互补金属氧化物半导体绝缘体上硅工艺(Complementary Metal Oxide Semiconductor Silicon On Insulator,CMOS SOI)设计了一款支持5G毫米波24.25~27.5 GHz和37~43.5 GHz双频段的低相位噪声压控振荡器(Voltage Controlled Os...
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