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电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究: 收藏
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引用; 《四川大学学报（自然科学版）》2011年第2期48卷 395-399页; 作者：陶勇廖志君王自磊范强伍登学卢铁城四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室成都610064; 自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响...; 自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B_4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25 Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10^(-3) Pa,高压U等于6 kV,束流I在100 mA～120mA之间时,所制涂层表面形貌最佳.; 来源：详细信息评论

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