摘要：A compact bi-directional （BiDi） triplexer using grating-assisted multimode interference （MMI） coupler is proposed based on silicon nanowire *** of the high index contrast between silicon and silicon dioxide, the size of the structure is greatly reduced with a footprint of 2.5×911 （μm）. Asymmetrical ports are introduced in the MMI structure to satisfy the bandwidth requirements of the industrial standards ITU-T G.983.3-dB bandwidths of 100, 22, and 15 nm are obtained for the wavelengths of 1 310, 1 490, and 1 550 nm, respectively. The device can be readily fabricated using a commercial CMOS process.

摘要：对使用时域有限差分法 (FDTD)屏蔽盒的屏蔽效果进行了分析。吸收边界采用 Mur.二阶吸收边界条件。对一个盒壁上带开孔的屏蔽盒的几种设计布置的计算和对一个实际屏蔽盒的屏蔽系数的计算结果证明 FDTD计算屏蔽系统效果良好。

摘要：近年来,超构材料尤其是超构界面引起了物理学界的广泛关注,通过在界面处引入相位的不连续,从而实现对波前的任意操控并且实现各种特异的光学现象,这些超构界面采用金属纳米结构或者介质粒子,在界面处实现了高效的反常反射、折射和透射。然而到目前为止,这些对光束的操控都是基于对平面外传播光束的作用。光子学发展的核心方向之一是实现片上的大规模光子集成,片上光操控能够为光子回路、滤波以及复用等功能器件提供新的机理和方法,因此探索在片内实现可集成的光束操控机理至关重要。本文将介绍利用高折射率介质粒子的共振特性,通过巧妙的设计实现片内操控的各种光学奇异现象和波前调控功能的理论和实验进展,通过在构成垂直超构界面的粒子中激发特殊的共振态从而引起奇异的散射场,获得了结构简单、高效、宽频而且在面内传输的新机理片上光学元件,其CMOS兼容和可片上集成的特性增加了在片上光互连的实际应用价值。

摘要：刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅来提高反射效率、降低器件插入损耗,并在入射波导处引入多模干涉耦合器以实现通道频谱平坦化设计。结果表明,闪耀光栅反射面的反射效率由35%提高到了85%,1d B带宽达到12nm。这对于提高系统稳定性、增大传输距离和容量、降低系统成本具有显著作用,能够满足光互连系统的实际应用需求。

摘要：面向互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容的硅基光互连体系,研制了包括光波导、光栅耦合器、刻蚀衍射光栅、偏振旋转分束器、光频梳以及3D互连新器件等的硅光子关键器件,并对相应器件的设计及工艺给出了最新的研究结果。基于以上关键硅光子器件进行了大规模光子集成,实现了片上集成的微波任意波形发生器,并集成了300多个光器件,包括高速调制、延迟线和热调等功能。面向数据通信研制了八通道偏振不敏感波分复用(WDM)接收器,解决了集成系统中的偏振敏感问题。