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CMP设备修整器防撞机构设计: 收藏
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引用; 《电子工业专用设备》2022年第4期51卷 65-68页; 作者：张继静刘福强张金环田知玲中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176; 介绍了一种用于晶圆化学机械抛光(CMP)设备修整器模块的防撞机构,在控制异常或控制参数设置不合理的情况下,可以精确地避免修整器与抛光头碰撞。经过大量工艺实验证明,其防撞性能稳定、可靠,而且控制效果良好。; 介绍了一种用于晶圆化学机械抛光(CMP)设备修整器模块的防撞机构,在控制异常或控制参数设置不合理的情况下,可以精确地避免修整器与抛光头碰撞。经过大量工艺实验证明,其防撞性能稳定、可靠,而且控制效果良好。; 来源：详细信息评论

电气设计库管理办法与基本规范: 收藏
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引用; 《电子工业专用设备》2015年第10期44卷 5-10,41页; 作者：赵立华田知玲涂佃柳中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176; 介绍了电气设计库的管理办法和基本规范。在半导体专用设备电气设计时,需要把元器件等整理成公共库,便于企业统一使用。设计人员以规范和公共库为基准,进行库的设计和整理,并经过持续的标准化、规范化之后,库即可在PLM系统中和日常设计...; 介绍了电气设计库的管理办法和基本规范。在半导体专用设备电气设计时,需要把元器件等整理成公共库,便于企业统一使用。设计人员以规范和公共库为基准,进行库的设计和整理,并经过持续的标准化、规范化之后,库即可在PLM系统中和日常设计中使用。; 来源：详细信息评论

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