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重掺As衬底上超高阻薄层硅外延片的制备
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《半导体技术》2020年 第3期45卷 200-205页
作者:薛宏伟 米姣 袁肇耿 王刚 张志勤河北普兴电子科技股份有限公司石家庄050200 河北省硅基外延材料工程技术研究中心石家庄050200 
超高阻薄层硅外延片可用于制备光电探测器的二极管、瞬态电压抑制二极管等分立器件。利用E200型单片外延炉在直径为150 mm的重掺As硅单晶衬底上制备了参数可控且均匀性高的外延层。采用多次本征生长技术,在重掺As硅衬底边缘形成掺杂原...
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基于感应电能传输技术的光伏充电站的建模与仿真研究
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《智能建筑电气技术》2017年 第3期11卷 95-97页
作者:迪姆科.什科夫斯基 谢尔登.威廉姆森 岳文 
环境问题的日益凸显和油价的持续上涨,使电动汽车(EV)和混合动力电动汽车(HEV)得以发展并逐步商业化,并将很快助力相关配套设备的上市。这其中,电动汽车充电站可能会是整条运输系统更换链中最重要的一环。作为一种非接触式电能传输的装...
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