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316.4nm高透的632.8nm反射镜: 收藏
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引用; 《光仪技术》1999年第2期15卷 41-42页; 作者：朱耀南缪金义江苏曙光光电子仪器厂; 来源：详细信息评论

1064nm激光平板偏振膜的研制: 收藏
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引用; 《激光与红外》2009年第12期39卷 1337-1340页; 作者：贺才美陈德江涂建军缪金义陈忠杜亚清江苏曙光光电有限责任公司光学制造部江苏扬州225009; 根据军用光学仪器的使用要求,在平板K9基底上镀制偏振膜,要求在56.4°角入射条件下,激光波长1064 nm处满足TP>99%,TS<1%,且膜层抗激光损伤阈值应≥600 MW/cm2。采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积系统,通过选择HfO2...; 根据军用光学仪器的使用要求,在平板K9基底上镀制偏振膜,要求在56.4°角入射条件下,激光波长1064 nm处满足TP>99%,TS<1%,且膜层抗激光损伤阈值应≥600 MW/cm2。采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积系统,通过选择HfO2和SiO2作为高低折射率材料,利用Macleod软件进行膜系设计与分析,采用LightRatioPeak光值比例法进行监控,优化工艺参数,减少监控误差,在平板K9基底上成功镀制符合使用要求的偏振膜。所镀膜层不仅满足光谱要求,且顺利通过膜层环境测试,完全满足军用光学仪器的使用要求。; 来源：详细信息评论

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