摘要：基于激光干涉光刻的基本原理,设计了新型的可应用于大面积光刻的激光图案检测系统,并阐述了利用电荷耦合元件对光刻图案的CMOS实时检测及实现大面积光刻的方法。实验结果表明,使用激光干涉光刻技术可以产生大面积的亚微米级周期性图案。该方法提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。

摘要：纳米尺度器件的商业化,要求开发高生产能力的纳米制备技术,该技术应满足经常对设计的器件进行改进的需要。电子束刻蚀技术和扫描探针刻蚀技术等无掩模纳米光刻技术给予了人们期望,但是,这些技术的低生产能力使其在大规模应用上受到了限制。本文报道了一种新颖低廉、生产高效的无掩模纳米光刻途径,该技术使用一个在组成图案的表面上飞行的等离子体透镜阵列,聚焦短波长表面等离子体<100nm的光斑。然而,这些纳米尺度的光斑仅仅在近场形成,很难在表面上高速地对阵列进行扫描。为了克服这一难题,设计了自适应间隙的空气轴承装置,飞行阵列恰好距圆盘20nm,旋转速度为4～12m/s,实验显示的图案线宽为80nm。该廉价的纳米制备方案有望获得比其它无掩模技术高出2～5个数量级的产量。

摘要：光子晶体是一种介电常数呈周期性变化的介质材料,它由介电常数不同的两种材料周期排列组成,因其周期性而产生了光子禁带,为了产生比较大的光子禁带宽度,这两种材料的介电常数比一般大于2,光子晶体可以使某一频段上的光波无法通过,继而达到滤波的目的.设计了在硅基底上制作六边形孔阵的二维光子晶体的方法,这个结构具有特殊的光学特性;经过实验尝试,最终得到了能够制造符合要求的光子晶体的尺寸参数.制作这样的光子晶体要在涂有光刻胶的硅基质上进行一步干涉光刻,为完成这个光刻实验搭建了三光束光刻光路,通过多次曝光实验得到了符合仿真数据的光子晶体结构参数.通过利用双光子聚合的方法在光刻胶上可以制作点或是线缺陷,再利用如三电极电化学(HF溶液)等方法对光刻胶进行刻蚀,可制造空气柱深宽比相对较大的光子晶体.将这个模型记录在硅基底上,形成的光子晶体就具有如滤波等特殊能力.也可以利用相同的原理得到想要的光子晶体结构,以控制不同频段上的光波.这种工艺提供了更快速、低成本的制造更大型、更复杂的所需光子晶体结构的可能.

摘要：主要针对目前内燃机的大功率、小排放、低噪声的要求，根据隔热发动机的热障机理，介绍了几种热障型活塞的设计方案。