摘要：研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生"跑弧"并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点放电的物理机制,探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳、绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性.结果表明,这3种复合结构靶材设计方案均能有效解决电弧离子镀磁性靶材"跑弧"问题.通过实验得到,在低饱和蒸气压金属或绝缘陶瓷靶壳设计方案里,靶材频繁引弧到弧斑能受控运动的转变温度为(136.6±23.0)℃.

摘要：电弧离子镀工艺中电弧蒸发产生的大颗粒污染严重影响了所沉积涂层的性能。为了从源头上解决大颗粒难题,本文提出了一种新的旋转横向磁场的设计思路,通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。通过有限元模拟磁场的分布,对旋转横向磁场控制的电弧离子镀弧源进行了优化设计。并根据方案制作了旋转磁场发生装置及其电源,使该弧源的旋转磁场具有多模式可调频调幅的功能,用以改善弧斑的放电形式,提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少靶材大颗粒的发射,用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜,以拓展电弧离子镀的应用范围。

摘要：本文叙述了复合外场动态内耗控制仪的研制,介绍其电路的设计以及机械部件和电子系统。实验结果表明,施加交变电流(交变磁场)给试样的方式,加载方便,而且对内耗和模量有明显的影响,该装置不仅结构紧凑,而且造价低廉,性能优良。该控制仪还适用于研究高T_c 超导体、电致范性、动态内耗以及电子与间隙溶质原子、位错的相互作用等多方面的实验要求。

摘要：针对磁控溅射和阴极弧离子镀沉积技术存在的局限性,采用有限元分析方法(Finite element method,FEM)进行磁场模拟,优化设计外加电磁线圈的结构和磁场分布位形,并应用于磁控溅射沉积透明导电氧化物和阴极弧离子镀沉积硬质薄膜中。分析了外加电磁线圈磁场对磁控溅射等离子体辉光变化、磁控靶磁场平衡度/非平衡度、以及线圈位置对等离子体特性和靶材利用率的影响。设计和制作了轴对称磁场和旋转磁场,研究了它们对阴极弧离子镀弧斑运动形貌和薄膜表面大颗粒等特性的影响。通过控制弧斑运动状态,可以得到不同程度的颗粒分布,实现颗粒的可控沉积,减少薄膜表面大颗粒的污染。

摘要：介绍了使用新型PTC(PositiveTemperature Coefficient)热敏陶瓷研制成功的大功率、低漂移发热器件的结构和性能指标,给出并分析了它的设计原理和准则。

摘要：本文介绍了广泛应用于过程控制、环境监测、及测量等方面的数字电压表如何与微型计算机直接联接使用,给出了接口间的硬件电路及接口软件。

摘要：综述了近年来超硬纳米多层膜材料选择与结构设计的研究进展,主要介绍了多层膜的选材,从构成多层膜的材料种类、膜与基体的选择、多层膜材料的选择以及从超硬效应理论得到的启示等几个方面总结了多层膜实现超硬特性时要考虑的因素,并指出了目前存在的问题及今后的发展方向。