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1064nm倍频波长分离膜的制备与性能研究: 收藏
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引用; 《中国激光》2005年第6期32卷 835-838页; 作者：马小凤张东平王英剑范书海高卫东范正修邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心; 通过对主膜系添加匹配层并借助计算机对膜系进行优化,设计出结构规整、性能优良的1064nm倍频波长分离膜。用电子束蒸发及光电极值监控技术在K9玻璃基底上沉积薄膜,将样品置于空气中在260℃温度下进行3h热退火处理。然后用Lambda900分光...; 通过对主膜系添加匹配层并借助计算机对膜系进行优化,设计出结构规整、性能优良的1064nm倍频波长分离膜。用电子束蒸发及光电极值监控技术在K9玻璃基底上沉积薄膜,将样品置于空气中在260℃温度下进行3h热退火处理。然后用Lambda900分光光度计测量了样品的光谱性能;用表面热透镜(STL)技术测量了样品的弱吸收值;用调Q脉冲激光装置测试了样品的抗激光损伤阈值(LIDT)。实验结果发现,样品的实验光谱性能与理论光谱性能有很好的一致性,退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂,说明薄膜的温度稳定性好;同时退火使样品的弱吸收减小,从而其激光损伤阈值提高。理论和实验结果均表明,对主膜系添加匹配层的方法是1064nm倍频波长分离膜设计的较好方法。; 来源：详细信息评论

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