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化学机械抛光中材料去除非均匀性及因子分析
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《微纳电子技术》2013年 第3期50卷 184-189页
作者:杜诗文 宋建军 蒋名国 闫东亮太原科技大学材料科学与工程学院太原030024 太原科技大学机械工程学院太原030024 
化学机械抛光中晶圆表面材料去除的非均匀性是影响抛光质量的主要因素之一。材料去除非均匀性直接影响上层布线的质量。通过对抛光垫与晶圆表面不同接触状态下的摩擦学分析,得到抛光垫与晶圆不同接触状态下摩擦系数。采用归一化摩擦系...
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体外循环下冠状动脉旁路移植术围手术期呼吸末二氧化碳与B型脑钠肽的变化及其意义
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《昆明医科大学学报》2018年 第10期39卷 51-57页
作者:周凤高 杨德兴 徐冕 刘桠 许成 赵琨 刘荣昆明医科大学第一附属医院EICU云南昆明650032 云南省第一人民医院急诊科云南昆明650034 云南省阜外心血管病医院SICU云南昆明650032 
目的探讨体外循环(CPB)下冠状动脉旁路移植术(CABG)中患者呼吸末二氧化碳(ETCO_2)与血浆B型脑钠肽(BNP)的变化及其意义。方法选择2017年9月至2018年3月在云南省阜外心血管病医院在体外循环下冠状动脉旁路移植术的42例患者为研究对象。...
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