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检索条件"作者=蒲继祖"

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ZEMAX软件在曝光光源设计中的应用: 收藏
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引用; 《电子工业专用设备》2012年第8期41卷 40-43页; 作者：蒲继祖中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176; 以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。; 以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。; 来源：详细信息评论

非接触间隙检测: 收藏
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引用; 《电子工业专用设备》2014年第11期43卷 33-35页; 作者：贾亚飞蒲继祖张云鹏中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176; 基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。; 基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。; 来源：详细信息评论

用于晶圆刷洗的同心卡接机构设计: 收藏
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引用; 《电子工业专用设备》2017年第1期46卷 53-55页; 作者：陶利权熊朋蒲继祖李嘉浪费玖海中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176; 在CMP后清洗工艺过程中,往往需要对机刷进行快速更换。针对以上需求,设计了一种用于晶圆刷洗的同心卡接机构,很好地解决了机刷更换过程同心度存在偏差及更换不便的问题,改善了晶圆表面清洗的效果。; 在CMP后清洗工艺过程中,往往需要对机刷进行快速更换。针对以上需求,设计了一种用于晶圆刷洗的同心卡接机构,很好地解决了机刷更换过程同心度存在偏差及更换不便的问题,改善了晶圆表面清洗的效果。; 来源：详细信息评论

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